[发明专利]光学薄膜、光学构件及光学薄膜的制造方法

权利要求书

1.一种光学薄膜，其为在基材上设置的光学薄膜，其中，具有：

含有硅(Si)的氧化物的硅氧化物层、和

在该硅氧化物层上设置、含有氟化物的防水层，

采用纳米压痕所测定的所述硅氧化物层的硬度为9GPa以上，

采用AFM所测定的所述防水层的算术平均粗糙度为0.7nm以上。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其中，在所述硅氧化物层下具备：具有比所述硅氧化物层的折射率高的折射率的高折射率层。

3.根据权利要求2所述的光学薄膜，其中，所述高折射率层包含铪(Hf)的氧化物。

4.根据权利要求2所述的光学薄膜，其中，所述高折射率层包含钛(Ti)的氧化物和镧(La)的氧化物。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的光学薄膜，其中，所述硅氧化物层包含铝(Al)的氧化物。

6.根据权利要求2-4中任一项所述的光学薄膜，其中，在所述基材与所述高折射率层之间，从所述基材侧起依次设置有：具有比所述基材的折射率高的折射率的第2高折射率层、和具有比所述第2高折射率层低的折射率的低折射率层。

7.根据权利要求2-6中任一项所述的光学薄膜，其中，所述高折射率层的厚度为10nm以上。

8.根据权利要求1-5中任一项所述的光学薄膜，其中，所述防水层的在温度20℃、水适量7μL下的滑落角为20度以下。

9.根据权利要求1-6中任一项所述的光学薄膜，其中，所述防水层的对于温度20℃下的水的接触角为100度以上。

10.一种光学构件，其包括：所述基材、和在所述基材上所设置的权利要求1-9中任一项所述的光学薄膜。

11.根据权利要求10所述的光学构件，其中，所述光学构件为车载相机用的透镜。

12.一种光学薄膜的制造方法，其为在基材上设置的光学薄膜的制造方法，包括：

在所述基材上通过真空蒸镀法将含有硅(Si)的氧化物的硅氧化物层成膜的工序、和

在所述硅氧化物层上形成含有氟化物的防水层的工序，

采用纳米压痕所测定的所述硅氧化物层的硬度为9GPa以上，

采用AFM所测定的所述防水层的算术平均粗糙度为0.7nm以上。

13.根据权利要求12所述的光学薄膜的制造方法，其中，在将所述硅的氧化物成膜的工序之前，包括：将具有比所述硅氧化物层的折射率高的折射率的高折射率层成膜的工序。

14.根据权利要求13所述的光学薄膜的制造方法，其中，将所述硅的氧化物成膜的工序中的所述真空蒸镀法为离子辅助沉积(IAD)法。

15.根据权利要求14所述的光学薄膜的制造方法，其中，将所述高折射率层成膜的工序中的真空蒸镀法没有使用离子辅助沉积(IAD)法，或者以比将所述硅的氧化物成膜的工序中的离子辅助沉积(IAD)法中的离子束照射强度小的强度来进行成膜。