[发明专利]肖特基势垒二极管在审

专利信息
申请号: 201980024311.2 申请日: 2019-03-11
公开(公告)号: CN112005384A 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 有马润;藤田实;平林润;佐佐木公平 申请(专利权)人: TDK株式会社;株式会社田村制作所;诺维晶科股份有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L29/24;H01L29/41;H01L29/47
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦;黄浩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 肖特基势垒二极管
【说明书】:

本发明提供一种难以产生电场集中引起的绝缘破坏的肖特基势垒二极管,具备:由氧化镓构成的半导体基板(20)、设置于半导体基板(20)上的由氧化镓构成的漂移层(30)、与漂移层30肖特基接触的阳极电极(40)、与半导体基板(20)欧姆接触的阴极电极(50)。漂移层(30)具有在俯视时包围阳极电极(40)的外周沟道(10),外周沟道(10)利用漂移层(30)的逆导电型的半导体材料(11)而埋入。这样,如果设置利用漂移层(30)的逆导电型的半导体材料(11)埋入的外周沟道(10),则电场由于外周沟道(10)的存在而被分散。由此,能够缓和阳极电极(40)的角部的电场集中,因此,难以产生绝缘破坏。

技术领域

本发明涉及肖特基势垒二极管,特别是涉及使用了氧化镓的肖特基势垒二极管。

背景技术

肖特基势垒二极管是通过利用了金属和半导体的接合而产生的肖特基势垒的整流元件,与具有PN结的通常的二极管相比,具有正向电压低,并且开关速度快的特征。因此,肖特基势垒二极管被用作为功率器件用的开关元件。

在将肖特基势垒二极管用作为功率器件用的开关元件的情况下,由于需要确保足够的反向耐压,因此,取代硅(Si)而使用带隙大的碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化镓(Ga2O3)等。其中,由于氧化镓的带隙为非常大的4.8~4.9eV,其绝缘破坏电场也为较大的7~8MV/cm,因此,使用氧化镓的肖特基势垒二极管非常有望被用于功率器件用的开关元件。使用了氧化镓的肖特基势垒二极管的例子记载于专利文献1及2中。

专利文献2中记载的肖特基势垒二极管具有在俯视时设置于与阳极电极重叠的位置的多个沟道,并且以绝缘膜覆盖沟道的内壁的结构。根据这种结构,由于当施加反向电压时,位于沟道之间的台面区域成为耗尽层,因此漂移层的通道区域被夹断。由此,可以大幅抑制在施加反向电压的情况下的泄漏电流。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2017-045969号公报

专利文献2:日本特开2017-199869号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是,专利文献1及2中记载的肖特基势垒二极管中,电场集中于阳极电极的端部,因此,当施加高电压时,在该部分中引起绝缘破坏。例如,在专利文献2中记载的肖特基势垒二极管中,电场集中于位于端部的沟道的边缘部分。

因此,本发明的目的在于,提供一种使用了氧化镓的肖特基势垒二极管,该肖特基势垒二极管难以产生电场集中引起的绝缘破坏。

用于解决课题的方案

本发明提供一种肖特基势垒二极管,其特征在于,具备:半导体基板,其由氧化镓构成;漂移层,其设置于半导体基板上且由氧化镓构成;阳极电极,其与漂移层肖特基接触;阴极电极,其与半导体基板欧姆接触,漂移层具有在俯视时包围阳极电极的外周沟道,外周沟道利用漂移层的逆导电型的半导体材料而埋入。

根据本发明,在漂移层设置有外周沟道,因此,电场由于外周沟道的存在而被分散。而且,外周沟道利用漂移层的逆导电型的半导体材料而埋入,因此,由于外周沟道内的半导体材料和漂移层的电势差,耗尽层在外周沟道的周围扩展。由此,阳极电极的角部的电场集中被缓和,因此,难以产生绝缘破坏。

本发明中,漂移层也可以还具有多个中心沟道,其设置于在俯视时与阳极电极重叠的位置。在该情况下,多个中心沟道的内壁也可以被绝缘膜覆盖。据此,当施加反向电压时,位于中心沟道间的台面区域成为耗尽层,漂移层的通道区域被夹断,因此,能够大幅抑制施加反向电压的情况的泄漏电流。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社;株式会社田村制作所;诺维晶科股份有限公司,未经TDK株式会社;株式会社田村制作所;诺维晶科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980024311.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top