[发明专利]记录层、光信息记录介质及溅射靶有效

专利信息
申请号: 201980015237.8 申请日: 2019-05-22
公开(公告)号: CN111771242B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 田内裕基 申请(专利权)人: 株式会社神户制钢所
主分类号: G11B7/2433 分类号: G11B7/2433;C23C14/08;C23C14/34;G11B7/24035;G11B7/2578;G11B7/26
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 日本兵库县神户市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 信息 介质 溅射
【说明书】:

本发明提供一种记录层、光信息记录介质及溅射靶。本发明的一实施方式的记录层是通过激光的照射进行记录的光信息记录介质用的记录层,包含W氧化物、Fe氧化物、以及Ta氧化物及Nb氧化物中的至少任一种,且在全部金属原子中,包含10原子%以上且60原子%以下的Fe、合计为3原子%以上且50原子%以下的Ta及Nb。

技术领域

本发明涉及一种记录层、光信息记录介质及溅射靶(sputtering target)。

背景技术

以例如压缩盘(Compact Disc,CD)、数字多功能盘(Digital Versatile Disc,DVD)等光盘(optical disc)为代表的光信息记录介质分类为再生专用、追记型以及重写型的三种。其中,作为追记型光盘的记录方式,例如已知有记录层的材料发生相变的方式、记录层的材料发生反应的方式、记录层的材料发生分解的方式、在记录层开设孔的方式等。

这些中,作为记录层的材料发生分解的方式,在日本专利特开2012-139876号公报中提出了使用锰(Mn)氧化物的方法,在日本专利特开2011-62981号公报中提出了使用钯(Pd)氧化物的方法,在日本专利特开2014-26704号公报中提出了使用钨-铁(W-Fe)氧化物的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开2012-139876号公报

专利文献2:日本专利特开2011-62981号公报

专利文献3:日本专利特开2014-26704号公报

发明内容

发明所要解决的问题

作为对光信息记录介质所要求的主要的要求特性,可列举:反射率足够大、调制度(modulation degree)足够大(由记录引起的反射率的变化大)、记录灵敏度足够大(能够利用实用的输出功率的激光器进行记录)、功率容限(power margin)足够大、以及抖动(jitter)足够小(信号精度高)。

在所述各公报所记载的结构中,由于难以通过单层的记录层来满足这些要求特性的全部,因此层叠功能层来形成光信息记录介质,所述功能层附加记录层所欠缺的特性。具体而言,由于记录层单体无法充分确保反射率,因此需要在记录层的背面(激光照射面的相反侧)层叠反射层,或者由于记录层单体的调制度不充分,因此需要层叠电介质层。因此,在所述各公报所记载的结构中,层数变多,因而难以提高光信息记录介质的生产性。

另外,有些光记录介质中具有多个记录层。在这样的多层光记录介质中,要求记录层的透射率大。因此,在层数多的所述各公报所记载的结构中,还产生难以增大透射率的不良情况。

鉴于如上所述的实际情况,本发明的问题在于提供一种以单体具有比较良好的特性的记录层、生产性优异的光信息记录介质、以及能够形成以单体具有比较良好的特性的记录层的溅射靶。

解决问题的技术手段

为解决所述问题而完成的本发明的一实施方式的记录层是一种通过激光的照射进行记录的光信息记录介质用的记录层,包含W氧化物、Fe氧化物、以及钽(Ta)氧化物及铌(Nb)氧化物中的至少任一种,且在全部金属原子中,包含10原子%(atomic%)以上且60原子%以下的Fe、合计为3原子%以上且50原子%以下的Ta及Nb。

所述记录层通过包含W氧化物、Fe氧化物以及Ta氧化物及Nb氧化物中的至少一种,能够在增大折射率的同时减小消光系数,并且能够使其他特性也比较良好。特别是,通过使全部金属原子中的Fe的含有率在所述范围内,能够在获得比较大的透射率的同时,减少为了将所述记录层的材料热分解而所需的能量。另外,通过使全部金属原子中的Ta及Nb的合计含有率在所述范围内,所述记录层能够获得比较良好的调制度、抖动值及功率容限。因此,所述记录层能够以单体获得比较良好的特性。

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