[发明专利]记录层、光信息记录介质及溅射靶有效
申请号: | 201980015237.8 | 申请日: | 2019-05-22 |
公开(公告)号: | CN111771242B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 田内裕基 | 申请(专利权)人: | 株式会社神户制钢所 |
主分类号: | G11B7/2433 | 分类号: | G11B7/2433;C23C14/08;C23C14/34;G11B7/24035;G11B7/2578;G11B7/26 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 日本兵库县神户市*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 信息 介质 溅射 | ||
1.一种记录层,其是通过激光的照射进行记录的光信息记录介质用的记录层,其特征在于,包含:
钨氧化物;
铁氧化物;以及
钽氧化物及铌氧化物中的至少任一种,且
在全部金属原子中,包含10原子%以上且60原子%以下的铁、且包含合计为3原子%以上且50原子%以下的钽及铌,全部金属原子中的钨、铁、钽及铌的合计含量为70原子%以上。
2.根据权利要求1所述的记录层,还包含:锰氧化物、铜氧化物、锌氧化物、银氧化物、铝氧化物中的至少一种。
3.根据权利要求1或2所述的记录层,其平均厚度为15nm以上且60nm以下。
4.一种光信息记录介质,包括如权利要求1、2或3所述的记录层。
5.根据权利要求4所述的光信息记录介质,还包括保护层,所述保护层层叠于所述记录层的至少一个面,以金属氧化物为主成分,平均厚度为5nm以上且50nm以下。
6.一种溅射靶,其是用于通过溅射来形成记录层的溅射靶,所述记录层是通过激光的照射进行记录的光信息记录介质用的记录层,所述溅射靶的特征在于包含:
钨;
铁;以及
钽及铌中的至少任一种,且
在全部金属原子中,包含10原子%以上且60原子%以下的铁、且包含合计为3原子%以上且50原子%以下的钽及铌,全部金属原子中的钨、铁、钽及铌的合计含量为70原子%以上。
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