[发明专利]投影掩模及激光照射装置在审

专利信息
申请号: 201980015207.7 申请日: 2019-04-05
公开(公告)号: CN111758150A 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 水村通伸 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: H01L21/268 分类号: H01L21/268;B23K26/066;H01L21/20;H01L21/336;H01L29/786
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华;洪秀川
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 投影 激光 照射 装置
【权利要求书】:

1.一种投影掩模,其配置于被照射激光的投影透镜,并使所述激光透过,其中,所述投影掩模具备:

透过层,其供所述激光透过;

反射膜,其折射率比所述透过层大;

金属膜,其对所述激光进行遮光;以及

保护膜,其保护所述金属膜,

所述透过层、所述反射膜、所述金属膜、以及所述保护膜从相互的层叠方向中的、被照射所述激光的一侧朝向相反侧依次配置。

2.一种激光照射装置,其特征在于,具备:

光源,其产生激光;以及

投影透镜,其向附着于薄膜晶体管的非晶硅薄膜的规定的区域照射所述激光,

在所述投影透镜配置有权利要求1所述的投影掩模。

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