[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 201980012774.7 | 申请日: | 2019-02-14 |
公开(公告)号: | CN111712911A | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 长友春敏 | 申请(专利权)人: | 株式会社吉川希斯泰克 |
主分类号: | H01L21/822 | 分类号: | H01L21/822;H01L21/82;H01L21/8236;H01L21/8238;H01L27/04;H01L27/088;H01L27/092 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于靖帅;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,其特征在于,
该半导体装置包含:
多个第1信号输出电路,其具有第1晶体管和第2晶体管,输出所述第1晶体管与所述第2晶体管的连接点的电压,所述第1晶体管和所述第2晶体管串联连接在提供第1电压的信号线与提供比所述第1电压低的第2电压的信号线之间,并且各自的栅极被提供规定的电压;以及
多个第2信号输出电路,其具有第3晶体管和第4晶体管,输出所述第3晶体管与所述第4晶体管的连接点的电压,所述第3晶体管和所述第4晶体管串联连接在提供所述第1电压的信号线与提供所述第2电压的信号线之间,并且各自的栅极被提供规定的电压,所述第3晶体管与所述第1晶体管布局相同但特性不同,所述第4晶体管与所述第2晶体管布局相同但特性不同。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
所述第1晶体管和所述第3晶体管与提供所述第1电压的信号线连接,所述第1晶体管的阈值电压与所述第3晶体管的阈值电压不同,所述第2晶体管的阈值电压与所述第4晶体管的阈值电压不同。
3.根据权利要求2所述的半导体装置,其特征在于,
所述第1电压是电源电压,
所述第2电压是基准电压,
所述半导体装置包含:
所述第1信号输出电路,在该第1信号输出电路中,所述第1晶体管的阈值电压比所述电源电压高,所述第1晶体管和所述第2晶体管是栅极与提供所述第1电压的信号线连接的N型晶体管;以及
所述第2信号输出电路,在该第2信号输出电路中,所述第4晶体管的阈值电压比所述电源电压高,所述第3晶体管和所述第4晶体管是栅极与提供所述第1电压的信号线连接的N型晶体管。
4.根据权利要求2或3所述的半导体装置,其特征在于,
所述半导体装置具有以二极管的方式连接在提供所述第1电压的信号线与提供第3电压的信号线之间的N型晶体管,
所述第1晶体管和所述第2晶体管串联连接在提供所述第3电压的信号线与提供所述第2电压的信号线之间,
所述第3晶体管和所述第4晶体管串联连接在提供所述第3电压的信号线与提供所述第2电压的信号线之间。
5.根据权利要求2至4中的任意一项所述的半导体装置,其特征在于,
所述第1电压是电源电压,
所述第2电压是基准电压,
所述半导体装置包含:
所述第1信号输出电路,在该第1信号输出电路中,所述第1晶体管的阈值电压比(所述第2电压-所述第1电压)的值低,所述第1晶体管和所述第2晶体管是栅极与提供所述第2电压的信号线连接的P型晶体管;以及
所述第2信号输出电路,在该第2信号输出电路中,所述第4晶体管的阈值电压比(所述第2电压-所述第1电压)的值低,所述第3晶体管和所述第4晶体管是栅极与提供所述第2电压的信号线连接的P型晶体管。
6.根据权利要求2至5中的任意一项所述的半导体装置,其特征在于,
所述半导体装置包含:
所述第1信号输出电路,在该第1信号输出电路中,所述第1晶体管和所述第2晶体管分别以二极管的方式连接;以及
所述第2信号输出电路,在该第2信号输出电路中,所述第3晶体管和所述第4晶体管分别以二极管的方式连接。
7.根据权利要求2至6中的任意一项所述的半导体装置,其特征在于,
所述半导体装置包含:
所述第1信号输出电路,在该第1信号输出电路中,所述第1晶体管为耗尽型,所述第2晶体管为增强型;以及
所述第2信号输出电路,在该第2信号输出电路中,所述第3晶体管为增强型,所述第4晶体管为耗尽型。
8.根据权利要求2至7中的任意一项所述的半导体装置,其特征在于,
所述半导体装置包含:
所述第1信号输出电路,在该第1信号输出电路中,所述第1晶体管是高耐压晶体管,所述第2晶体管是耐压比所述第1晶体管的耐压低的低耐压晶体管;以及
所述第2信号输出电路,在该第2信号输出电路中,所述第3晶体管是所述低耐压晶体管,所述第4晶体管是所述高耐压晶体管。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造