[发明专利]摄像机模块制造装置以及摄像机模块制造方法有效

专利信息
申请号: 201980008772.0 申请日: 2019-03-19
公开(公告)号: CN111971950B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 山本典;浅野富士夫;三宅秀穂;今川幸司;高垣拓树;名取真吾 申请(专利权)人: 株式会社PFA;泰可诺智能株式会社;株式会社新川
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232;G02B7/02;H04N5/225
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 日本埼玉县坂户市千代田5丁*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 摄像机 模块 制造 装置 以及 方法
【说明书】:

本发明提供一种摄像机模块制造装置以及摄像机模块制造方法。一种摄像机模块制造装置,其将装入有摄影透镜的透镜单元与安装有摄像元件的传感器基板予以接合,其中,所述摄像机模块制造装置包括光学单元,所述光学单元包含准直透镜与测定图,使测定图的像通过摄影透镜而在摄像元件上成像,基于摄像元件对通过光学单元而在摄像元件上成像的测定图的像进行转换所得的图像信号,来调整透镜单元与传感器基板的相对位置,测定图相对于与准直透镜的光轴垂直的面而倾斜地配置。

技术领域

本发明涉及一种将透镜单元(lens unit)与安装有摄像元件的传感器基板予以接合的摄像机模块(camera module)制造装置以及摄像机模块制造方法。

背景技术

已知有一种摄像机模块,其是将装入有摄影透镜的透镜单元、与安装有电荷耦合器件(Charge Coupled Device,CCD)或互补金属氧化物半导体(Complementary MetalOxide Semiconductor,CMOS)等摄像元件的传感器基板一体化而成。此种摄像机模块中,进行传感器基板相对于透镜单元的位置调整,以使摄像元件的摄像面与透镜单元的成像面大致一致,在完成位置调整的状态下,通过紫外线固化树脂来将传感器基板粘合至透镜单元(例如参照专利文献1、2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第5460406号说明书

专利文献2:日本专利第4960308号说明书

发明内容

发明所要解决的问题

专利文献1、2所记载的以往技术的摄像机模块制造装置中,一边使传感器基板相对于透镜单元的位置移动,一边拍摄测定图(chart)的图像,对图像的聚焦评估值相对于传感器基板的位置的变化进行检测,根据聚焦评估值的变化来调整传感器基板的位置。因此,必须在传感器基板的多个不同位置获取测定图的图像,因而存在位置调整耗费时间的问题。

因此,本发明的目的在于,在摄像机模块制造装置中,以短时间来进行透镜单元与传感器基板的相对位置的调整,实现生产性的提高。

解决问题的技术手段

本发明的摄像机模块制造装置调整透镜单元与传感器基板的相对位置,在调整好相对位置的状态下将透镜单元与传感器基板予以接合,所述透镜单元装入有摄影透镜,所述传感器基板安装有将摄影透镜所成的像转换成图像信号的摄像元件,所述摄像机模块制造装置包括:光学单元,包含准直透镜与测定图,使测定图的像通过准直透镜与摄影透镜而在摄像元件上成像,基于摄像元件对通过光学单元而在摄像元件上成像的测定图的像进行转换所得的图像信号,来调整透镜单元与传感器基板的相对位置,测定图相对于与准直透镜的光轴垂直的面而倾斜地配置。

这样,测定图相对于与准直透镜的光轴垂直的面而倾斜地配置,因此摄影透镜对测定图的成像面的高度相对于从摄影透镜的光轴计起的与光轴正交的方向的距离,而发生变化。因此,能够通过一次摄像来获取摄影透镜的成像面的高度不同的多个测定图的像,利用一次摄像,便能够获取相对于摄影透镜的成像面与摄像元件的摄像面的高度偏离的、空间频率响应等聚焦评估值的变化特性,从而进行透镜单元与传感器基板的相对位置的调整。由此,能够以短时间进行透镜单元与传感器基板的相对位置的调整,从而能够提高生产性。

本发明的摄像机模块制造装置中,也可包括:传感器基板保持部,保持传感器基板;透镜单元保持部,配置在传感器基板保持部的其中一侧,保持透镜单元;移动机构,使透镜单元保持部或传感器基板保持部中的其中任一者或两者相对于另一者而相对地移动;以及控制部,通过移动机构来调整透镜单元与传感器基板的相对位置,光学单元配置在透镜单元保持部的其中一侧,透镜单元保持部以光学单元的准直透镜的焦点位置重合于透镜单元的摄影透镜的入射光瞳的位置的方式,来保持透镜单元,准直透镜使测定图的像通过摄影透镜的入射光瞳而在由传感器基板保持部所保持的传感器基板的摄像元件上成像。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社PFA;泰可诺智能株式会社;株式会社新川,未经株式会社PFA;泰可诺智能株式会社;株式会社新川许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980008772.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top