[发明专利]溅射靶以及磁性膜

说明书

一种溅射靶，其含有0.001mol％～0.5mol％的Bi、45mol％以下的Cr、45mol％以下的Pt、60mol％以下的Ru、合计1mol％～35mol％的金属氧化物，剩余部分包含Co和不可避免的杂质。

技术领域

本说明书公开一种涉及溅射靶以及磁性膜的技术。

背景技术

例如，在制造磁记录介质时，构成该磁记录介质的记录层和其他规定的多个层分别通过使用与该各层对应的多个溅射靶在基板上进行溅射来依次成膜而形成。其中，有时会使用使规定的氧化物粒子分散于以Co为主成分且含有Cr和Pt的金属相中而成的溅射靶(例如参照专利文献1～10)。

再者，在通过溅射进行的成膜时，有时会产生异常放电、所谓的发弧(arcing)，由此存在如下问题：产生作为向基板上的附着物的颗粒，这会使成膜的成品率降低。

特别是，在如上所述的磁性材料用的溅射靶中，认为添加于Co－Cr－Pt系合金的氧化物在发弧时从溅射靶脱落，这成为颗粒产生的原因。

关于这样的问题，在专利文献11中，记载有“发现了通过在利用球磨机等将原料粉末混合、粉碎时，混合预先将原料粉末混合、烧结、粉碎而得到的一次烧结体粉末，靶组织更加细微化。”，并记载有使用了该见解的磁记录膜形成用溅射靶的制造方法。具体而言，提出了“一种磁记录膜形成用溅射靶的制造方法，其特征在于，所述磁记录膜形成用溅射靶含有非磁性氧化物、Cr以及Pt，剩余部分由Co和不可避免的杂质构成，所述磁记录膜形成用溅射靶的制造方法包括：一次烧结工序，使将Co、Cr以及Pt的各元素以单质的形式或以包含其中两种以上的元素的合金的形式制成粉末的原料粉末与非磁性氧化物的原料粉末的各原料粉末混合而成的一次混合粉末烧结而得到一次烧结体；粉碎工序，将所述一次烧结体粉碎而得到一次烧结体粉末；以及二次烧结工序，将所述各原料粉末混合而成的二次混合粉末与所述一次烧结体粉末混合并粉碎后使其烧结，其中，所述二次混合粉末的平均粒径为0.05～30μm，所述一次烧结体粉末的最大粒径小于200μm”。并且，由此，认为“能均匀地得到高品质的膜，并且能减少颗粒的产生，特别是能制作高密度的垂直磁记录方式的介质。”。

此外，在专利文献12中，公开了“一种溅射靶，其特征在于，是具有金属相与氧化物相均匀分散的组织的烧结体溅射靶，该金属相含有Co、Pt以及Mn作为成分，该氧化物相含有至少以Mn为构成成分的氧化物”。根据专利文献12的溅射靶，认为“具有能减少在溅射时产生的颗粒量、能提高成膜时的成品率这样的优异效果。”。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011－208169号公报

专利文献2：日本特开2011－174174号公报

专利文献3：日本特开2011－175725号公报

专利文献4：日本特开2012－117147号公报

专利文献5：日本专利第4885333号公报

专利文献6：美国专利申请公开第2013/0134038号说明书

专利文献7：国际公开第2012/086388号

专利文献8：美国专利申请公开第2013/0213802号说明书

专利文献9：国际公开第2015/064761号

专利文献10：美国专利申请公开第2016/0276143号说明书

专利文献11：日本特开2011－208169号公报

专利文献12：国际公开第2014/141737号

发明内容

发明所要解决的问题