[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的金属图形，以及

位于所述金属图形靠近所述衬底基板一侧的减反图形；

其特征在于，所述减反图形的材料包括掺杂有难熔金属的氧化钼，所述难熔金属的熔点大于温度阈值；

所述减反图形的厚度为30nm~75nm，所述金属图形的厚度为5~500nm；所述减反图形中，所述难熔金属与钼的摩尔比为2:100至10:100；

所述减反图形的厚度与所述金属图形的厚度的比值在0.140~0.160之间；或

所述减反图形的厚度与所述金属图形的厚度的比值小于0.115大于0.086，测量获得的所述显示基板的反射光的波峰峰值包含大于600nm波长的光；或

所述减反图形的厚度与所述金属图形的厚度的比值小于0.215大于0.170，测量获得的所述显示基板的反射光的波峰峰值包含小于500nm波长的光。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述温度阈值为2000摄氏度。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述氧化钼包括二氧化钼和/或三氧化钼，所述难熔金属包括以下至少一种：钽、铌、钛、钨。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述减反图形的厚度为50nm~55nm，所述金属图形的厚度为350nm。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述减反图形的厚度为50nm~55nm，所述显示基板的反射率小于10%。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板，所述金属图形为栅金属层图形。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述金属图形的材料为铜，所述阵列基板还包括源漏金属层图形，所述源漏金属层图形的材料为钼/铝/钼的叠层结构或者铜。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，

所述难熔金属包括钽，所述减反图形的厚度为54nm，所述栅金属层图形的厚度为350nm，所述源漏金属层图形为钼/铝/钼的叠层结构，所述钼/铝/钼三层的厚度分别为15nm、300nm和80nm。

9.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，

所述难熔金属包括钽，所述减反图形的厚度为54nm，所述栅金属层图形的厚度为350nm，所述源漏金属层图形的材料为铜，所述源漏金属层图形的厚度为350nm。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板，所述金属图形包括源漏金属层图形和栅金属层图形，所述金属图形的材料为铜，所述难熔金属包括钽。

11.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述金属图形的厚度为350nm，所述减反图形的厚度为54nm。

12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-11中任一项所述的显示基板、与所述显示基板对盒设置的彩膜基板以及背光源，所述显示基板位于所述彩膜基板远离所述背光源的一侧。