[实用新型]一种多晶硅还原炉有效

专利信息
申请号: 201922492434.9 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN211310861U 公开(公告)日: 2020-08-21
发明(设计)人: 余涛;周维维;杨鹏程;代晓涛 申请(专利权)人: 四川永祥多晶硅有限公司
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张东梅
地址: 614800 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 多晶 还原
【权利要求书】:

1.一种多晶硅还原炉,包括炉筒(1)、底盘(2)以及垫片,所述垫片位于所述炉筒(1)和所述底盘(2)之间,其特征在于,所述炉筒(1)的底面为平面,该平面用于挤压所述垫片,且所述炉筒(1)的底面的直径大于所述垫片的直径。

2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述炉筒(1)的底面直径比所述垫片的直径大38-41cm。

3.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述炉筒(1)铸造成型。

4.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述底盘(2)上设置有垫片凹槽(4),所述垫片被限位于所述垫片凹槽(4)内,且所述垫片的上部伸出所述底盘(2)的顶面。

5.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述垫片为多元氟橡胶垫片(3)。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述炉筒(1)通过螺栓与所述底盘(2)连接。

7.根据权利要求6所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述螺栓为围绕所述炉筒(1)的周向设置的多个。

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