[实用新型]多晶硅铸锭设备

权利要求书

1.一种多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述多晶硅铸锭设备包括坩埚、光源、及光线检测装置，所述坩埚具有收容腔，所述坩埚在所述收容腔的内壁上附设有氮化硅涂层，所述光源及所述光线检测装置分别设置于收容腔的内侧和外侧，或者分别设置于外侧和内侧，所述光源朝所述氮化硅涂层发射初始光线，所述初始光线经过所述氮化硅涂层后形成检测光线，所述检测光线传导至所述光线检测装置，所述光线检测装置接收检测光线，并根据所述检测光线判断所述氮化硅涂层的厚度是否满足预设厚度。

2.如权利要求1所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述多晶硅铸锭设备包括本体，所述本体具有收容槽，所述收容槽收容所述坩埚、所述光源、及所述光线检测装置，所述光线检测装置设置在所述收容腔内，所述光源位于收容腔外，并连接于所述收容槽的内壁。

3.如权利要求2所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述多晶硅铸锭设备还包括支撑架，所述支撑架固定于所述收容槽内，所述支撑架支撑所述坩埚。

4.如权利要求2所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述多晶硅铸锭设备还包括密封罩，所述密封罩盖接所述本体，并密封所述收容槽的开口，以防止光线经所述收容槽的开口传至所述收容槽内。

5.如权利要求4所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述密封罩设有坩埚密封罩，所述坩埚密封罩盖接所述坩埚，并密封所述坩埚的开口，以防止光线经所述收容腔的开口传至所述收容腔内。

6.如权利要求5所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述密封罩还包括与所述坩埚密封罩相连的光源密封罩，所述光源密封罩密封连接在所述坩埚和所述本体之间，以密封所述坩埚和所述本体之间的开口。

7.如权利要求5所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述光线检测装置固定连接所述坩埚密封罩靠近所述收容槽的内壁的一侧。

8.如权利要求5所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述内壁包括底壁和与所述底壁相连的侧壁，所述多晶硅铸锭设备包括滑动装置，所述滑动装置包括滑动基座和与所述滑动基座相连的固定部，所述滑动基座滑动连接于所述坩埚密封罩靠近所述底壁的一侧，所述固定部固定连接所述光线检测装置，所述滑动基座可滑近所述侧壁或者滑离所述侧壁，以带动所述光线检测装置滑近所述侧壁或所述滑离所述侧壁。

9.如权利要求8所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述滑动装置还包括连接于所述滑动基座和所述固定部之间的伸缩部，所述伸缩部可沿靠近所述底壁的方向延伸或者沿背离所述底壁的方向收缩，以带动所述光线检测装置滑向所述底壁或者滑离所述底壁。

10.如权利要求9所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述多晶硅铸锭设备还包括处理器和电机，所述处理器与所述电机电连接，所述电机与所述滑动基座及所述伸缩部连接，所述处理器发出控制指令至所述电机，所述电机接收所述控制指令后向所述滑动基座和所述伸缩部输出扭矩，以驱动所述滑动基座滑动和驱动所述伸缩部伸缩。

11.如权利要求10所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述多晶硅铸锭设备还包括距离检测装置，所述距离检测装置固定连接于所述光线检测装置，且所述距离检测装置电连接所述处理器，所述距离检测装置用于检测所述光线检测装置到所述侧壁及所述底壁的距离值，并将所述距离值传至所述处理器，以使所述处理器根据所述距离值发出所述控制指令。

12.如权利要求2所述的多晶硅铸锭设备，其特征在于，所述光源滑动连接于所述收容槽的内壁，所述光线检测装置包括光传感器，所述光源正对所述光传感器，所述光源朝所述光传感器发出光线。