[实用新型]一种用于基片定位且能够防止飞片的旋涂设备有效

专利信息
申请号: 201922466697.2 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN211436868U 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 冀然 申请(专利权)人: 青岛天仁微纳科技有限责任公司
主分类号: B05C13/02 分类号: B05C13/02;B05C11/08;B05C15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266109 山东省青岛市城阳区长城*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 定位 能够 防止 设备
【说明书】:

本实用新型公开了一种用于基片定位且能够防止飞片的旋涂设备,包括真空吸盘、驱动装置、圆心定位托盘、托盘支架和基片,本实用新型结构简单,实用性强,真空吸盘和圆心为金属结构,在接触温度较高的基片和高压时不会变形,旋涂前使用圆心定位托盘定位圆心时,不接触基片表面,避免了污染和损坏基片,且提高了定位精度和稳定性,有利于胶层厚度的一致性和均匀性,其中气道组的结构,能够令真空吸附力分布更加均匀,且可以避免“飞片”现象的发生,旋涂完毕后,圆心定位托盘可从托盘支架上拆下,配合真空吸盘将旋涂好的基片转移进行下一步操作,避免了人工手动移动剐蹭基片边缘等失误。

技术领域

本实用新型涉及纳米压印技术领域,具体为一种用于基片定位且能够防止飞片的旋涂设备。

背景技术

纳米压印技术通过机械转移的手段达到了超高的分辨率,是一种新型的微纳加工技术,纳米压印的基本步骤包括在基片上涂覆胶液,压印,固化,分离等,压印胶的涂覆方式有旋涂、滴胶、滚涂、喷雾等方式,其中旋涂最为常见,旋涂原理即在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液,旋转速度,旋转时间和基片间的粘滞系数而不同,在旋涂开始之前,基片放置在吸盘中心,需将基片的中心和吸盘的中心同轴并形成有效固定,这样才能保证高速旋转时基片的稳定性,基片发生偏移,与真空吸盘轴心不齐,将会导致旋涂时基片呈时高时低的颠簸状态,无法得到好的旋涂效果,影响基片在高速旋转时的稳定性,进而影响胶层的厚度的一致性和均匀性,有的基片甚至会在旋转的过程中向外飞出,导致基片破裂,增加生产成本。

中国专利《匀胶机吸盘》(CN110238000A)提供了一种匀胶机吸盘,其结构包括:吸纳部和支撑连接部,吸纳部上设有多个相连通的吸附气道,吸附气道包括多个第一气道和多个第二气道,多个第一气道沿吸纳部的径向间隔设置,多个第二气道分别连通多个第一气道,第二气道与抽气口连接,但是,如果发生与抽气孔相连接的气管松动等现象,由于所有的气道相互连接,将导致所有吸纳部的吸附力降低,导致基片在旋转的过程中向外飞出的后果,另外,涂覆完胶体后,人工手动移动基片,会出现剐蹭基片边缘胶体等失误,为解决上述问题,我们提出一种用于基片定位且能够防止飞片的旋涂设备。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于基片定位且能够防止飞片的旋涂设备,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于基片定位且能够防止飞片的旋涂设备,包括真空吸盘、驱动装置、圆心定位托盘、托盘支架和基片,所述真空吸盘装配于驱动装置上,所述真空吸盘插接装配于圆心定位托盘上,所述圆心定位托盘装配于托盘支架上;

所述真空吸盘包括真空吸盘平面上层板和真空吸盘平面下层板,且真空吸盘平面上层板一体成型于真空吸盘平面下层板的上表面,所述真空吸盘平面上层板的上侧壁固定装配有气道组。所述真空吸盘平面上层板的上侧壁均匀开设有真空孔,且真空孔与气道组相连通,所述真空吸盘平面下层板的下侧壁一体成型有底座,所述底座的下侧壁开设有定位卡槽;

所述驱动装置包括电机,且电机通过导线连接到外部电源,所述电机的输出端固定安装有电机轴,所述电机轴的上端固定安装有定位螺栓,且定位螺栓螺接于定位卡槽内;

所述圆心定位托盘包括定位部,所述定位部的右侧壁固定安装有手柄,所述手柄的上侧壁右侧开设有定位孔;

所述托盘支架包括支柱,所述支柱的上侧壁固定安装有平板,所述平板的上侧壁前后对称固定安装有导轨,所述导轨的上侧壁均滑动装配有滑块,所述滑块的上侧壁固定安装有滑板,所述滑块的左侧壁滑动装配有定位支柱,所述平板的上侧壁开设有通槽,且定位支柱的下端贯穿通槽。

优选的,所述气道组包括环形气道和直线型气道,所述环形气道固定安装于真空吸盘平面上层板的上侧壁,且直线型气道固定连通于环形气道之间。

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