[实用新型]一种实现平板和转盘处理的等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201922461980.6 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN211182150U 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 沈文凯;刘鑫培;王红卫 申请(专利权)人: 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京润川律师事务所 11643 代理人: 张超
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 平板 转盘 处理 等离子体 装置
【说明书】:

本实用新型提供一种实现平板和转盘处理的等离子体处理装置,所述处理装置包括外壳组件和电极组件,所述电极组件设置于外壳组件内;其中,所述外壳组件用于获得等离子体处理的真空环境;所述电极组件用于制造等离子体,以实现等离子体处理;所述电极组件包括侧板、电极接头、电极板和转盘模组,电极板通过电极接头可拆卸的连接于外壳组件上,所述转盘模组设置于外壳组件内的底部。本实用新型在腔体内同时设置了两套等离子体处理装置,并通过电极接头方便电极板的拆卸和安装,进而实现了平板等离子处理和转盘等离子处理两种模式的转换。

技术领域

本实用新型涉及等离子体处理设备领域,具体涉及一种实现平板和转盘处理的等离子体处理装置。

背景技术

随着高科技产业的快速发展,各种工艺对使用产品的技术要求越来越高,等离子体处理技术的出现,不仅改进了产品性能、提高了生产效率,更实现了安全环保效应。等离子体处理技术能够在材料科学、高分子科学、生物医药材料学、微流体研究、微电子机械系统研究、光学、显微术和牙科医疗等领域得到应用。

等离子体,即物质的第四态,是由部分电子被剥夺后的原子以及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气状物质。这种电离气体是由原子,分子,原子团,离子,电子组成。其作用在物体表面可以实现物体的超洁净清洗、物体表面活化、蚀刻、精整以及等离子表面涂覆。

等离子表面处理技术是干式处理法,替代了传统的湿法处理技术具有以下优势:

(1)环保技术:等离子体作用过程是气固相干式反应,不消耗水资源、无须添加化学药剂;

(2)效率高:整个工艺能在较短的时间内完成;

(3)成本低:装置简单,容易操作维修,少量气体代替了昂贵的清洗液,同时也无处理废液成本;

(4)处理更精细:能够深入微细孔眼和凹陷的内部并完成清洗任务;

(5)适用性广:等离子表面处理技术能够实现对大多数固态物质的处理,因此应用的领域非常广泛。

现有技术中,根据不同的处理技术要求、待处理工件的形状和性质,本领域技术人员需要选择不同的等离子体处理方法。例如:对由于待测工件腔体内不同位置等离子体密度不均一、工件的形状、等离子体鞘层等因素影响到表面涂层的均匀性产生的等离子体处理不均匀的情况,本领域技术人员通常通过可旋转靶台,通过靶台能够360度单向或往复旋转,实现对待测工件的等离子体处理,但是旋转等离子体处理工艺耗时长,因此,针对等离子体处理均匀度要求不高的工件,本领域技术人员通常直接选择平板处理的方式对工件进行等离子体处理,以提高处理效率。因此,对于处理工件类型多且复杂的用户来说,往往需要准备至少两种类型的等离子体处理设备,非常不方便。

中国专利(CN208857360U)公开了一种等离子体表面处理全方位旋转工件靶台,包括固定底座和设置在固定底座上的旋转靶台,所述旋转靶台沿圆周方向间隔排列设有插接通孔,各所述插接通孔内活动连接有旋转支架,在所述固定底座内设有分别驱动旋转靶台、旋转支架同步旋转的驱动机构,待处理工件夹持处于各旋转支架上,进行等离子体表面处理时,旋转靶台旋转使得各旋转支架绕旋转靶台的轴线旋转,形成“公转”,同时,各旋转支架绕自身轴线旋转,形成“自转”,通过公转和自转组合。但是,该专利仅能够实现转盘处理,不能实现平板处理,且所述靶台结构复杂,工作效率低。

由于这些问题的存在,使得现有的等离子体处理装置功能性单一,不能适应多样的等离子体处理需求。因此,如何提供一种使用便捷、功能多样的等离子体处理设备是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种使用便捷、功能多样的等离子体处理设备,以解决现有技术中的问题。所述技术方案具体如下:

一种实现平板和转盘处理的等离子体处理装置,所述处理装置包括外壳组件和电极组件,所述电极组件设置于外壳组件内;其中

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