[实用新型]一种半导体基板清洗设备有效
| 申请号： | 201922458049.2 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN211359828U | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 冀然 | 申请（专利权）人： | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00;F26B21/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266109 山东省青岛市城阳区长城*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 清洗 设备 | ||
1.一种半导体基板清洗设备，其特征在于：包括工作台(1)，所述工作台(1)的上表面开设有导轨槽(7)，所述导轨槽(7)的内部安装有移动装置(4)，所述移动装置(4)的上侧安装有旋转托盘(5)，所述工作台(1)的上表面前侧安装有气体喷出装置(2)，所述工作台(1)的上表面后侧安装有液体喷出装置(3)；
所述移动装置(4)包括第一电机组件(41)，所述第一电机组件(41)的输出轴右端固定安装有丝杠(42)，所述丝杠(42)位于导轨槽(7)的内部，所述丝杠(42)的右端通过轴承组转动安装在导轨槽(7)的内部右端，所述丝杠(42)的外表面螺接有滑块(43)，所述滑块(43)滑动安装在导轨槽(7)的内部。
2.根据权利要求1所述的一种半导体基板清洗设备，其特征在于：所述旋转托盘(5)包括固定安装在滑块(43)上侧的基座(52)，所述基座(52)的内部固定安装有第二电机组件(51)，所述第二电机组件(51)的输出轴上端固定安装有真空吸盘(53)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体基板清洗设备，其特征在于：所述气体喷出装置(2)包括第一回转气缸(23)，所述第一回转气缸(23)的转轴上侧固定安装有喷气导管(22)，所述喷气导管(22)的出口端固定安装有喷气嘴(21)。
4.根据权利要求1所述的一种半导体基板清洗设备，其特征在于：所述液体喷出装置(3)包括第二回转气缸(33)，所述第二回转气缸(33)的转轴上侧固定安装有喷液导管(32)，所述喷液导管(32)的出口端固定安装有喷液嘴(31)。
5.根据权利要求1所述的一种半导体基板清洗设备，其特征在于：所述工作台(1)的内部安装有存气罐组件(9)和存液罐组件(8)，所述存气罐组件(9)通过软管与喷气导管(22)固定装配，所述存液罐组件(8)通过软管与喷液导管(32)固定装配。
6.根据权利要求1所述的一种半导体基板清洗设备，其特征在于：所述工作台(1)的右侧嵌接有控制器(6)，所述控制器(6)与外部电源电连接。
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