[实用新型]一种溅射靶材交变箱有效
申请号: | 201922452495.2 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN211199394U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 邢伟亮 | 申请(专利权)人: | 中诺新材(北京)科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙) 11301 | 代理人: | 刘祖芬 |
地址: | 100089 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 溅射 靶材交变箱 | ||
本实用新型涉及一种溅射靶材交变箱,包括上箱体和下箱体、与上箱体转动连接的箱门、设置在上箱体内的置物台、设置在上箱体内壁上的出风口和传感器、设置在下箱体内的温度控制系统,温度控制系统包括温度调节开关、时间控制开关、与温度调节开关和时间控制开关均连接的处理器、与处理器连接的调温器和显示屏、与调温器连接的风道,传感器也连接处理器,温度调节开关、时间控制开关和显示屏均设置在下箱体的外壁上,处理器和调温器均设置在下箱体内,风道的出风口设置在上箱体内。本装置温度范围为‑70摄氏度至700摄氏度,温度范围大,便于高低温交错形成符合要求的溅射靶材产品,并夹紧溅射靶材,防止掉落。
技术领域
本专利申请属于溅射靶材加工设备技术领域,更具体地说,是涉及一种溅射靶材交变箱。
背景技术
溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等。
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,其是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜,这种被镀的材料就叫溅射靶材。溅射靶材有金属,合金,陶瓷化合物等。
高低温交变湿热箱是仿真模拟高低温试验及环境湿度转变自然环境的专用工具,适用检验电子器件、汽车零配件、硫化橡胶、军用、航天科技及通信器械等商品在温度湿度不断转变下的抵抗力,依据检测结果进而分辨商品的可信性和可靠性,是产品研发和改善产品品质的理想化实验设备。
但目前的高低温交变箱不符合溅射靶材的生产要求,在高低温实验时,由于溅射靶材放置不稳妥,容易出现溅射靶材滑动、脱落等现象,影响生产的稳定进行,因此需要进行溅射靶材用交变箱的研制。
实用新型内容
本实用新型需要解决的技术问题是提供一种溅射靶材交变箱,可以有效夹紧溅射靶材,防止溅射靶材掉落的风险,同时具有温度波动范围大的特点,便于高低温交错以生产出符合要求的溅射靶材产品。
为了解决上述问题,本实用新型所采用的技术方案是:
一种溅射靶材交变箱,包括上下设置的上箱体和下箱体、与上箱体转动连接的箱门、设置在上箱体内的置物台、设置在上箱体内壁上的出风口和传感器、设置在下箱体内的温度控制系统,温度控制系统包括温度调节开关、时间控制开关、与温度调节开关和时间控制开关均连接的处理器、与处理器连接的调温器和显示屏、与调温器连接的风道,传感器也连接处理器,温度调节开关、时间控制开关和显示屏均设置在下箱体的外壁上,处理器和调温器均设置在下箱体内,风道的出风口设置在上箱体内;
上箱体内的置物台为架体式结构,置物台包括支架、间隔设置在支架上的若干支撑块、设置在上下左右相邻的四个支撑块所形成的空腔内的置物板、设置在每个置物板上的若干供溅射靶材放置的置物槽,置物槽的形状大小不一,每个置物槽的内缘还设有防护垫圈。
本实用新型技术方案的进一步改进在于:位于同一层置物台上的置物槽的形状相同但大小不同,位于非同一层置物台上的置物槽的形状不同。
本实用新型技术方案的进一步改进在于:所有支撑块的上表面和下表面上均设置有夹紧装置,夹紧装置包括设置在支撑块上表面和下表面上的转轴、与转轴转动连接的夹紧体、设置在夹紧体所在的支撑块内的回弹腔、设置在回弹腔内并与夹紧体连接的回弹体,回弹腔位于夹紧体的下方或上方。
本实用新型技术方案的进一步改进在于:回弹体为回弹卡钉或弹簧,相邻的夹紧体上下对应。
本实用新型技术方案的进一步改进在于:防护垫圈为橡胶防护垫圈,上箱体的内壁上设有保温层,保温层包括由内而外依次设置的真空层、第一保温层和第二保温层。
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