[实用新型]一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪

说明书

本实用新型涉及机械技术领域，公开了一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪。基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，包括底盘和挡板组件，底盘上设有多个用于放置基片的承载部；挡板组件设置于底盘下方，挡板组件能相对底盘运动，且挡板组件用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。本实用新型提供的基片蒸镀承载盘中的挡板组件可以遮挡蒸镀图形使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形，使蒸镀仪能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。

技术领域

本实用新型涉及机械技术领域，尤其涉及一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪。

背景技术

真空热蒸发镀膜技术被广泛应用于机发光显示屏等平板显示器的制造中，该技术在相应薄膜器件产业化中的应用也十分广泛。其基本原理是利用加热的手段使待形成薄膜的原材料受热蒸发，由凝聚相变成气相，原材料的分子或原子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到基板(衬底)表面，最终蒸发的分子或原子在基板(衬底)上沉积，凝结形成固态薄膜。

在有机发光显示装置中，发射可见光的有机发光层和接近有机发光层的有机层通过利用各种方法形成。尤其是真空沉积方法由于其简单的工艺而经常被使用。在真空沉积方法中，将粉状或固态的沉积材料填充到熔炉中，并通过对熔炉进行加热而在期望的区域上形成沉积膜。现有的基片蒸镀承载盘只能放置两个基片，并且蒸镀基片的种类少，基片蒸镀承载盘上的空间不能被充分利用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪，能放置多个基片，并且蒸镀基片的种类多，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，包括：

底盘，所述底盘上设有多个用于放置基片的承载部；

挡板组件，设置于所述底盘下方，所述挡板组件能相对所述底盘运动，且所述挡板组件用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。

优选地，所述挡板组件包括挡板和固定件，所述挡板与所述固定件滑动连接，所述挡板设有多个并沿所述底盘周向设置，且与所述承载部一一对应，所述挡板连接有驱动所述挡板相对所述底盘运动的驱动组件。

优选地，所述挡板与所述底盘的底面平行且滑动连接，且所述挡板朝向或远离所述底盘的中心运动。

优选地，所述底盘包括：

掩膜盘，所述掩膜盘沿周向设置多个所述蒸镀图形，所述挡板设置于所述掩膜盘下方，且所述固定件与所述掩膜盘固定连接，且所述挡板用于遮挡所述蒸镀图形；

基片盘，与所述掩膜盘同轴设置，且所述掩膜盘能相对所述基片盘转动。

优选地，所述底盘包括基片盘，所述承载部设置在所述基片盘上，所述挡板组件设置于所述基片盘下方，且所述挡板组件能相对所述基片盘运动。

优选地，所述挡板组件包括挡板，所述挡板设有多个并沿所述基片盘周向设置，且与所述承载部一一对应，所述挡板上设置多个所述蒸镀图形，所述挡板相对所述基片盘运动切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。

优选地，所述挡板与所述基片盘转动连接，且所述挡板转动的轴线与所述基片盘的中心线平行，所述挡板沿周向设有多个所述蒸镀图形。

优选地，所述挡板与所述基片盘滑动连接，且所述挡板朝向或远离所述基片盘的中心运动，所述挡板沿所述挡板的移动方向设置多个所述蒸镀图形。

优选地，所述承载部包括开设在所述底盘上的凹槽，所述凹槽的槽底开有蒸镀孔，所述凹槽用于放置所述基片。

一种真空蒸镀仪，包括上述的基片蒸镀承载盘。