[实用新型]一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪

权利要求书

1.一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，其特征在于，包括：

底盘，所述底盘上设有多个用于放置基片的承载部(2)；

挡板组件(3)，设置于所述底盘下方，所述挡板组件(3)能相对所述底盘运动，且所述挡板组件(3)用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形(4)。

2.根据权利要求1所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述挡板组件(3)包括挡板(31)和固定件(32)，所述挡板(31)与所述固定件(32)滑动连接，所述挡板(31)设有多个并沿所述底盘周向设置，且与所述承载部(2)一一对应，所述挡板(31)连接有驱动所述挡板(31)相对所述底盘运动的驱动组件。

3.根据权利要求2所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述挡板(31)与所述底盘的底面平行且滑动连接，且所述挡板(31)朝向或远离所述底盘的中心运动。

4.根据权利要求3所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述底盘包括：

掩膜盘(12)，所述掩膜盘(12)沿周向设置多个所述蒸镀图形(4)，所述挡板(31)设置于所述掩膜盘(12)下方，且所述固定件(32)与所述掩膜盘(12)固定连接，且所述挡板(31)用于遮挡所述蒸镀图形(4)；

基片盘(11)，与所述掩膜盘(12)同轴设置，且所述掩膜盘(12)能相对所述基片盘(11)转动。

5.根据权利要求1所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述底盘包括基片盘(11)，所述承载部(2)设置在所述基片盘(11)上，所述挡板组件(3)设置于所述基片盘(11)下方，且所述挡板组件(3)能相对所述基片盘(11)运动。

6.根据权利要求5所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述挡板组件(3)包括挡板(31)，所述挡板(31)设有多个并沿所述基片盘(11)周向设置，且与所述承载部(2)一一对应，所述挡板(31)上设置多个所述蒸镀图形(4)，所述挡板(31)相对所述基片盘(11)运动切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形(4)。

7.根据权利要求6所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述挡板(31)与所述基片盘(11)转动连接，且所述挡板(31)转动的轴线与所述基片盘(11)的中心线平行，所述挡板(31)沿周向设有多个所述蒸镀图形(4)。

8.根据权利要求6所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述挡板(31)与所述基片盘(11)滑动连接，且所述挡板(31)朝向或远离所述基片盘(11)的中心运动，所述挡板(31)沿所述挡板(31)的移动方向设置多个所述蒸镀图形(4)。

9.根据权利要求1所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述承载部(2)包括开设在所述底盘上的凹槽(21)，所述凹槽(21)的槽底开有蒸镀孔(22)，所述凹槽(21)用于放置所述基片。

10.一种真空蒸镀仪，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的基片蒸镀承载盘。