[实用新型]一种离子源挡板

说明书

本实用新型公开了一种离子源挡板，包括底板，底板上方设有不锈钢板，不锈钢板中部为空腔且两侧沿不锈钢板高度开设有滑道，滑道内插设有挡板，不锈钢板的一侧固接有连接块，连接块的下端伸入底板一侧贯穿的通槽内，通槽沿底板长度方向开设，连接块的下端一侧插接有穿过底板侧壁的旋转轴，旋转轴与气动阀机械连接。本实用新型可阻止离子源受到靶材的污染，提高生产效率和保证产品质量。

技术领域

本实用新型属于离子源技术改进技术领域，具体涉及一种离子源挡板。

背景技术

离子源在物理气象沉积真空镀膜中有很重要的作用，离子源的清洗作用可有效清除工件表面的杂质，使涂层与工件表面同时存在物理气相沉积，导致涂层结合力高，膜层致密、韧性好。

离子源是离子清洗的核心部件，但是在真空镀膜过程中，离子源容易受靶材影响，导致离子源被污染，从而影响镀膜质量。而传统装置离子源需要定期拆卸下来进行丙酮超声波清洗、表面打磨处理、二次清洗等工序，最后再重新组装，原样装回以将受污染后的离子源清洗干净。但是耗时耗力且影响生产效率，对离子源的核心部分会有一定的损伤，长时间后会影响离子源使用效果及使用寿命。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型提供一种离子源挡板，可阻止离子源受到靶材的污染，提高生产效率和保证产品质量。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：一种离子源挡板，包括底板，所述底板上方设有不锈钢板，所述不锈钢板中部为空腔且两侧沿所述不锈钢板高度开设有滑道，所述滑道内插设有挡板，所述不锈钢板的一侧固接有连接块，所述连接块的下端伸入所述底板一侧贯穿的通槽内，所述通槽沿所述底板长度方向开设，所述连接块的下端一侧插接有穿过所述底板侧壁的旋转轴，所述旋转轴与气动阀机械连接。

所述连接块为“L”型。

所述挡板为不锈钢板。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构简单、易于实现，采用不锈钢板上插设有挡板作为离子源的挡板，一方面能够完全遮挡住离子源而使离子源正前方没有任何间隙，另外可根据实际需要对挡板进行更换，解决了离子源受靶材污染的问题，降低离子源清洗周期，提高了生产效率，保证产品质量；离子源挡板由气动阀控制，实现在镀膜过程当中随时开启关闭，实用方便。

附图说明

图1是本实用新型的主视结构示意图；

图2是本实用新型的右视结构示意图；

图3是本实用新型的附视结构示意图；

图4是本实用新型实施例2的结构示意图；

附图中：1.底板；2.不锈钢板；3.连接块；4.通槽；5.旋转轴；6.气动阀；7.离子源；8.滑道；9.挡板。

具体实施方式

实施例1

如说明书附图中图1至图3所示的一种离子源挡板，包括底板1，底板1上方设有不锈钢板2，不锈钢板2中部为空腔且两侧沿不锈钢板2高度开设有滑道8，滑道8内插设有挡板9，不锈钢板2的一侧固接有连接块3，连接块3的下端伸入底板1一侧贯穿的通槽4内，通槽4沿底板1长度方向开设，连接块3的下端一侧插接有穿过底板1侧壁的旋转轴5，旋转轴5与气动阀6机械连接。

连接块3为“L”型。

挡板9为不锈钢板，也可以为其他材质的挡板，能够根据实际的生产需要进行定期的更换，由于滑道8没有从上至下沿整个不锈钢板2两侧开设，因此挡板9底部恰好收到限位。

待离子源7清洗结束后，关闭气动阀6，气动阀6带动旋转轴5旋转，旋转轴5带动不锈钢板2，使得挡板9遮挡住离子源7，避免离子源7受靶材污染。

实施例2