[实用新型]一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统有效
申请号: | 201922389464.7 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN211017024U | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 夏俊东;莫科伟;谭金辉;康雷雷 | 申请(专利权)人: | 吉姆西半导体科技(无锡)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
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地址: | 214194 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电磁式 刷洗 压力 控制系统 | ||
本实用新型是一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统,其结构包括摆动轴和安装在摆动轴顶端的刷臂,刷臂传动连接刷洗本体,刷洗本体下方为真空吸盘,真空吸盘底面连接旋转马达活动端,真空吸盘顶面上放置晶元,控制器分别与刷臂、刷洗本体及旋转马达信号连接。本实用新型的优点:结构合计合理,工作时,电磁线圈通过控制器得电产生磁力,称重模块获取压力,并反馈给控制器,控制器通过预设算法控制电磁线圈磁体电流强度,使刷头得到一个设定的压力。实现有效对电磁式晶元刷洗机刷洗压力进行稳定控制,提高了生产质量,改善了电磁式晶元刷洗机的使用效果。
技术领域
本实用新型涉及的是一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统。
背景技术
在半导体晶元生产过程中,无法避免会有生产环境中的小灰尘或是工艺反应物掉落在晶元上,如果不及时清除,会使晶元良率降低,影响产品质量稳定性。
现有技术中一般使用的清除方法是通过低发尘的发泡刷子在晶元表面刷洗去掉灰尘。这种清除方法中,刷头压力对刷洗效果的影响尤为重要,压力过小会导致清除不干净,压力过大则会使晶元表面产生刮伤。现有技术无法有效对其压力进行有效稳定控制,影响生产使用效果。
实用新型内容
本实用新型提出的是一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统,其目的旨在克服现有技术存在的上述缺陷,实现有效对电磁式晶元刷洗机刷洗压力进行稳定控制,提高生产质量。
本实用新型的技术解决方案:一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统,其结构包括摆动轴和安装在摆动轴顶端的刷臂,刷臂传动连接刷洗本体,刷洗本体下方为真空吸盘,真空吸盘底面连接旋转马达活动端,真空吸盘顶面上放置晶元,控制器分别与刷臂、刷洗本体及旋转马达信号连接。
优选的,所述的刷臂包括安装在刷臂本体上的称重模块、马达、同步带和同步轮,刷洗本体包括旋转轴、电磁线圈、永磁体、浮动体和刷头,旋转轴顶端连接一同步轮,该同步轮通过同步带连接另一同步轮,另一同步轮连接马达输出端,浮动体连接旋转轴底端,刷头通过螺牙连接浮动体,电磁线圈安装在旋转轴外侧,永磁体安装在浮动体上,控制器分别与刷臂中的称重模块和马达、及刷洗本体中的电磁线圈连接。
优选的,所述的浮动体通过花键接头连接旋转轴底端。
本实用新型的优点:结构合计合理,工作时,电磁线圈通过控制器得电产生磁力,称重模块获取压力,并反馈给控制器,控制器通过预设算法控制电磁线圈磁体电流强度,使刷头得到一个设定的压力。实现有效对电磁式晶元刷洗机刷洗压力进行稳定控制,提高了生产质量,改善了电磁式晶元刷洗机的使用效果。
附图说明
图1是本实用新型电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统的结构示意图。
图中的1是摆动轴、2是称重模块、3是马达、4是同步带、5是刷臂、6是同步轮、7是旋转轴、8是刷洗本体、9是电磁线圈、10是花键接头、11是控制器、12是永磁体、13是浮动体、14是刷头、15是晶元、16是真空吸盘、17是旋转马达。
具体实施方式
下面结合实施例和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1所示,一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统,其结构包括摆动轴1和安装在摆动轴1顶端的刷臂5,刷臂5传动连接刷洗本体8,刷洗本体8下方为真空吸盘16,真空吸盘16底面连接旋转马达17活动端,真空吸盘16顶面上放置晶元15,控制器11分别与刷臂5、刷洗本体8及旋转马达17信号连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造