[实用新型]一种铜箔电镀实验装置有效
| 申请号: | 201922352532.2 | 申请日: | 2019-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN211005664U | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
| 发明(设计)人: | 王彦 | 申请(专利权)人: | 苏州福田金属有限公司 |
| 主分类号: | C25D1/04 | 分类号: | C25D1/04;C25D3/38;C25D7/06;C25D17/00 |
| 代理公司: | 上海隆天律师事务所 31282 | 代理人: | 钟宗 |
| 地址: | 215011 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 铜箔 电镀 实验 装置 | ||
1.一种铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述装置包括:
一储液罐(101);
一电镀槽(102),所述电镀槽(102)内设有一阳极极板(104)、一阴极极板(105)与两铜排(106),一所述铜排(106)与所述阳极极板(104)电连接,另一所述铜排(106)与所述阴极极板(105)电连接;所述电镀槽(102)的侧壁外侧设有至少一与所述电镀槽(102)连通的溢流室(107),所述溢流室(107)通过回液管道(108)与所述储液罐(101)连通;以及
一进液管(103),所述进液管(103)自所述电镀槽(102)的侧壁穿设于所述电镀槽(102),所述进液管(103)在所述电镀槽(102)内部开设有朝向所述电镀槽(102)上方的开孔;所述进液管(103)的两端通过供液管道(109)与所述储液罐(101)连通。
2.如权利要求1所述的铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述电镀槽(102)的侧壁上设有支架(110)以及极板托架(111),所述支架(110)承载和固定所述极板托架(111)的第一端;所述极板托架(111)的第二端位于所述电镀槽(102)内,且与所述铜排(106)连接固定;所述极板托架(111)的第二端还与阳极极板(104)和阴极极板(105)连接固定。
3.如权利要求1所述的铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述供液管道(109)上设有流量调节阀(112)、供液泵(113)以及流量计(114),所述流量调节阀(112)以及所述供液泵(113)靠近所述储液罐(101)设置。
4.如权利要求1所述的铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述装置还包括设有温度计(115)的电磁加热搅拌器(116),所述电磁加热搅拌器(116)对所述储液罐(101)内的电解液进行加热并搅拌,所述温度计(115)连接于所述储液罐(101)内部。
5.如权利要求1所述的铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述储液罐(101)内的电解液由供液管道(109)输送至进液管(103),由进液管(103)上的所述开孔朝向所述电镀槽(102)内部喷出,经由所述阳极极板(104)与所述阴极极板(105)之间的通道流通,由溢流室(107)流出,经过回液管道(108)输送至储液罐(101)内,形成一电解液流通回路。
6.如权利要求1所述的铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述进液管(103)上的开孔与所述阳极极板(104)以及所述阴极极板(105)之间的间距相等。
7.如权利要求1所述的铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述电镀槽(102)的侧壁上开设有两个相对设置的所述溢流室(107)。
8.如权利要求1所述的铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述进液管(103)靠近电镀槽(102)的底部设置,所述溢流室(107)靠近电镀槽(102)的上方设置。
9.如权利要求1所述的铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述进液管(103)沿第一方向穿设于所述电镀槽(102),所述第一方向与所述电镀槽(102)的高度方向垂直。
10.如权利要求1所述的铜箔电镀实验装置,其特征在于,所述储液罐(101)内的电解液为硫酸铜溶液。
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