[实用新型]一种硅麦克风有效

专利信息
申请号: 201922307550.9 申请日: 2019-12-20
公开(公告)号: CN210807563U 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 杨建德;刘宝玉;田永超;张友;李雨龙 申请(专利权)人: 重庆黄葛树智能传感器研究院有限公司
主分类号: H04R1/02 分类号: H04R1/02;H04R1/28
代理公司: 重庆启恒腾元专利代理事务所(普通合伙) 50232 代理人: 万建
地址: 402760 重庆*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 麦克风
【说明书】:

实用新型涉及麦克风技术领域,具体涉及一种硅麦克风,包括电路板、第一外壳和第二外壳,所述第一外壳安装于所述电路板并形成容纳腔,所述第二外壳安装于所述电路板上并形成音腔;所述第一外壳的侧边上设有第一声孔,所述第一声孔包括至少一气流通道,所述气流通道贯穿所述第一外壳,所述气流通道包括一入口段,设置在所述第一声孔的外侧;一出口段,设置在所述第一声孔的内侧;一弯曲段,设置在所述入口段与所述出口段之间;所述第二外壳的顶壁具有一向上突出的凸出部,所述凸出部具有一传导腔和多个第二声孔。本实用新型通过设置双层外壳,在双层外壳上分别设置声孔,使外界声音可以从顺利进入硅麦克风内部,不影响拾音。

技术领域

本实用新型涉及麦克风技术领域,特别是涉及一种硅麦克风。

背景技术

常规的硅麦克风产品包括电路板和金属外壳构成的封装结构,金属外壳上设置有用于接收外界声音信号的声孔,封装结构内部的PCB上安装有MEMS(Mic ro-Electro-Mechanical Systems,微机电系统)芯片和IC(Integrated Circuit,集成电路)芯片,MEMS芯片可以将从声孔内传入的声音信号转变成电信号,MEMS芯片与线路板上的IC芯片电连接,MEMS芯片转变的声音信号经IC芯片进一步处理,通过电路板连接到外部电路。

由于硅麦克风上设置有与外部空间连通的声孔,这就造成了外部光线容易从声孔照射进硅麦克风内部,一旦光线照射到MEMS芯片和IC芯片,就会形成光噪声,对硅麦克风的电性能产生影响,导致声音传到的失真或失灵。

实用新型内容

针对上述现有技术的不足,本实用新型提供硅麦克风来解决上述问题。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用了如下的技术方案:

一种硅麦克风,包括电路板、第一外壳和第二外壳,所述第一外壳安装于所述电路板并形成容纳腔,所述第二外壳安装于所述电路板上并形成音腔,且所述第二外壳位于所述容纳腔内,所述音腔内设有贴装在所述电路板上的MEMS芯片和IC芯片;所述第一外壳的侧边上设有第一声孔,所述第一声孔包括至少一个气流通道,所述气流通道贯穿所述第一外壳,所述气流通道包括一入口段,设置在所述第一声孔的外侧;一出口段,设置在所述第一声孔的内侧;一弯曲段,设置在所述入口段与所述出口段之间;所述第二外壳的顶壁具有一向上突出的凸出部,所述凸出部具有一个传导腔和多个第二声孔,所述第一声孔竖向方向低于所述第二声孔,所述传导腔和所述音腔连通,所述第二声孔设置在所述凸出部的侧壁且与所述传导腔连通。

本技术方案中,通过在第一外壳的侧壁设置第一声孔,且第二声孔的位置高于第一声孔,可以防止光线直接照射到MEMS芯片和IC芯片,避免形成光噪声,保证了硅麦克风的电性能,确保了硅麦克风的拾音质量。同时,第二外壳的外壁设置凸出部,凸出部的侧壁上设置第二声孔,外界声音进入容纳腔后,气流通过第二声孔、传导腔后进入音腔,其中,声音气流经第二声孔后会改变流通方向,避免高强度的气流直接进入音腔中,从而提高了硅麦克风的抗吹气的能力,并且,入口段允许气流进入,出口段允许气流流出,而弯曲段的侧壁可以阻挡气流从而改变气流的流向,这样,也可以提高硅麦克风的抗吹气能力。

作为优化,所述第一外壳内部固定连接有防尘膜,所述防尘膜覆盖所述第一声孔,且所述防尘膜上设有使声音通过的通孔。

这样,可以防止外界的灰尘进入第一外壳导致容纳腔内积灰,影响麦克风的音效。

作为优化,还包括设置在所述电路板上的第三声孔,所述MEMS芯片覆盖与所述第三声孔,所述第三声孔连通所述MEMS芯片的内腔和所述容纳腔。

这样,进入音腔中进声通道为第二声孔和第三声孔,可以将全指向硅麦克风改造为双指向硅麦克风。

作为优化,所述凸出部的侧壁内部固定连接有阻尼,所述阻尼覆盖所述第二声孔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆黄葛树智能传感器研究院有限公司,未经重庆黄葛树智能传感器研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922307550.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top