[实用新型]一种用于溅射镀膜的连续供气装置

说明书

本实用新型公开了一种用于溅射镀膜的连续供气装置，包括主供气气路、备用供气气路、减压气路和监测气路，主供气气路和备用供气气路通过减压气路和监测气路与覆膜机连接，减压气路用于将主供气气路和备用供气气路进行降压，监测气路用于检测供入覆膜机的流量；本实用新型结构简单，实现了气体的连续供应，保证溅射镀膜时所需气体供应；增加三通阀和截止阀，排出更换气体时进入的空气，纯化了管路，保障了镀膜工艺，杜绝了空气瞬间进入工艺溅射区，减少了因气体杂质对镀膜工艺的影响。使用二次减压，主管路供气压力更为平稳，对后端电磁流量计冲击减小，保证了平稳的气体供应，从而确保了更为稳定的产品质量。

技术领域

本实用新型涉及一种用于溅射镀膜的连续供气装置。

背景技术

磁控溅射镀膜应用非常广泛，且极其成熟，尤其是在我国液晶显示行业，正处于飞速发展阶段。磁控溅射镀膜的优势之一就是可以连续不间断的镀膜作业，每次开机生产通常都能持续生产7-30天，因此，必须确保能够连续不间断的提供镀膜作业所需的工艺气体。镀膜工艺所用高纯气体(如氩气、氧气、氮气等)，通常采用的都是40L气瓶供气，这意味着每3-5天就得更换一瓶高纯气体。而在气体将用完需更换满瓶气体时，有时为了确保产品质量，必须停止生产去更换气体，或者边生产边切换备用气体，这就导致了要么影响产出效能，要么因切换气体时进入空气或气压不稳而影响镀膜产品品质。

实用新型内容

针对以上现有技术存在的缺陷，本实用新型的主要目的在于克服现有技术的不足之处，公开了一种用于溅射镀膜的连续供气装置，包括主供气气路、备用供气气路、减压气路和监测气路，所述主供气气路和所述备用供气气路通过减压气路和监测气路与覆膜机连接，所述减压气路用于将所述主供气气路和所述备用供气气路进行降压，所述监测气路用于检测供入所述覆膜机的流量；

所述主供气气路包括第一角阀、第一截止阀、第二截止阀和第一三通阀，主气罐通过所述第一角阀与所述第一截止阀连接，所述第一截止阀的出气端与所述第一三通阀的进气端连接，所述第一三通阀的出气端分别与所述第二截止阀和所述减压气路的进气端连接；

所述备用供气气路包括第二角阀、第三截止阀、第四截止阀和第二三通阀，备用气罐通过所述第二角阀与所述第三截止阀连接，所述第三截止阀的出气端与所述第二三通阀的进气端连接，所述第二三通阀的出气端分别与所述第四截止阀和所述减压气路的进气端连接。

进一步地，所述减压气路包括第一减压阀和第二减压阀，所述第一减压阀的出气端与所述第二减压阀的进气端连接。

进一步地，所述监测气路包括第五截止阀、流量计和电磁阀，所述第五截止阀通过所述流量计与所述电磁阀连接，所述电磁阀与所述覆膜机连接。

进一步地，所述备用供气气路还包括第三减压阀。

进一步地，所述第三减压阀的输出压力为2Mpa。

进一步地，所述主供气气路还包括单向阀，所述单向阀分别与所述第一截止阀和所述第一三通阀连接。

进一步地，所述第一减压阀的输出压力为0.8Mpa，所述第二减压阀的输出压力为0.2-0.3Mpa。

本实用新型取得的有益效果：

本实用新型结构简单，实现了气体的连续供应，保证溅射镀膜时所需气体供应；增加三通阀和截止阀，排出更换气体时进入的空气，纯化了管路，保障了镀膜工艺，杜绝了空气瞬间进入工艺溅射区，减少了因气体杂质对镀膜工艺的影响。使用二次减压，主管路供气压力更为平稳，对后端电磁流量计冲击减小，保证了平稳的气体供应，从而确保了更为稳定的产品质量。增加第三减压阀，实现了主供气气路和备用供气气路之间的自动切换。增加单向阀，避免主供气气路和备用供气气路之间的相互影响，提高气路内气体的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型一种用于溅射镀膜的连续供气装置的框图；