[实用新型]一种新型旋涂设备

说明书

本实用新型提出一种新型旋涂设备，包括：外壳，外壳内设置有容纳槽；真空装置，位于容纳槽底部，真空装置包括与容纳槽底部连接的真空泵，以及位于真空泵上方与真空泵连接的真空吸盘，真空吸盘用于吸附基片；旋转装置，连接于真空泵与真空吸盘之间；密封板，位于真空吸盘上方与容纳槽的槽壁连接，真空吸盘上方的密封板上开设有涂胶口；防护装置，位于密封板与密封板连接；滴胶装置，位于密封板上方与容纳槽的槽壁连接；胶液回收装置，位于密封板下方与涂胶口连接，胶液回收装置包括与涂胶口连接的回收壳，以及位于回收壳底端与回收壳连通的回收桶。本实用新型能够防止胶液回收管堵塞，防止空气中的灰尘会污染基片。

技术领域

本实用新型属于纳米压印技术领域，尤其涉及一种新型旋涂设备。

背景技术

纳米压印技术通过机械转移的手段达到了超高的分辨率，是一种新型的微纳加工技术。纳米压印的基本步骤包括在基片上涂覆胶液，压印，固化，分离等。压印胶的涂覆方式有旋涂、滴胶、滚涂、喷雾等方式，其中旋涂最为常见。旋涂原理即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液，旋转速度，旋转时间和基片间的粘滞系数而不同。

市场上的旋涂设备品牌众多，良莠不齐，用户在选择旋涂设备时，除了观察旋转速度，控制精度，还会观察真空构造。

CN209156285U公开了一种旋涂胶液回收系统，包括旋涂装置，真空抽液装置，真空集液装置，液体冲刷装置和气体冲刷装置等。但是在回收胶液的过程中，胶体可能在回收管122或者第一导气管232固化进而导致管道堵塞，并且旋涂带动空气流动，空气中的灰尘会污染基片，胶体会挥发出刺激性气体，有效的净化旋涂设备内部的灰尘和刺激性气体也是要解决的技术问题。

发明内容

本实用新型针对上述的技术问题，提出一种能够防止胶液回收管堵塞，防止空气中的灰尘会污染基片的新型旋涂设备。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案为：

一种新型旋涂设备，包括：

外壳，所述外壳内设置有容纳槽；

真空装置，位于所述容纳槽底部，所述真空装置包括与容纳槽底部连接的真空泵，以及位于所述真空泵上方与所述真空泵连接的真空吸盘，所述真空吸盘用于吸附基片；

旋转装置，连接于所述真空泵与所述真空吸盘之间可驱动所述真空吸盘旋转；

密封板，位于所述真空吸盘上方与所述容纳槽的槽壁连接，所述真空吸盘上方的密封板上开设有涂胶口；

防护装置，与所述密封板连接可打开或关闭所述涂胶口；

滴胶装置，位于所述密封板上方与所述容纳槽的槽壁连接，所述滴胶装置可相对于所述涂胶口转动，通过涂胶口向所述真空吸盘吸附的基片滴加压印胶；

胶液回收装置，位于所述密封板下方与所述涂胶口连接，所述胶液回收装置包括与所述涂胶口连接的回收壳，以及位于所述回收壳底端与所述回收壳连通的回收桶；

当所述防护盖盖住所述涂胶口时，所述真空吸盘在所述旋转装置驱动下转动，基片上的压印胶在所述真空吸盘离心力的作用下，均匀涂布在所述基片上，多余的压印胶甩向所述回收壳内壁，压印胶从所述回收壳内壁流至所述回收桶内。

作为优选的，上述新型旋涂设备，所述旋涂设备还包括设置于所述外壳顶部与容纳槽连通的空气净化装置，以及设置在所述密封板及容纳槽底部的排气孔。

作为优选的，上述新型旋涂设备，所述旋涂设备还包括控制器，所述控制器与所述空气净化装置、所述真空装置、所述旋转装置、所述防护装置以及所述滴胶装置电性连接。