[实用新型]一种多晶硅铸锭硅片清洗设备有效
申请号: | 201922275200.9 | 申请日: | 2019-12-18 |
公开(公告)号: | CN210743924U | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 肖真方 | 申请(专利权)人: | 武汉百臻半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 湖北天领艾匹律师事务所 42252 | 代理人: | 程明 |
地址: | 430000 湖北省武汉市中国(湖北)自*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多晶 铸锭 硅片 清洗 设备 | ||
本实用新型公开了一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,包括箱体,所述箱体底部的两侧均固定连接有底座,所述箱体顶部的左侧通过固定座固定连接有转动电机,所述转动电机的输出端固定连接有转动盘,所述转动盘的右侧固定来连接有短杆,所述短杆的外表面活动连接有摆动杆,所述摆动杆的一侧开设有通槽,本实用新型涉及片清洗设备技术领域。该多晶硅铸锭硅片清洗设备,通过在箱体的顶部设置转动电机,配合转盘上的短杆和摆动杆,再利用分叉杆和清理海绵,从而带动清理海绵进行摆动,能够使得喷头对硅片进行冲洗时,与水流方向相垂直的硅片被其清理海绵推平,同时对硅片上的赃物进行擦洗,通过此结构对硅片进行清洗效果较为明显。
技术领域
本实用新型涉及片清洗设备技术领域,具体为一种多晶硅铸锭硅片清洗设备。
背景技术
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种,多晶硅铸锭硅片在作为电池材料的源头,随着光伏产业的发展,多晶硅铸锭硅片使用的数量也越来越多。
现有的多晶硅铸锭硅片清理设备,通常是采用物理清洗的方式对硅片进行清洗,即采用高压喷头对硅片进行清洗,在对其进行清洗时,若硅片与喷头的水处于垂直状态,则硅片的两侧无法被清洗,且只用水冲洗难以清理干净,且清洗过后的水资源并没有回收利用或回收利用率较低,因此导致水资源的浪费。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,解决了若硅片与喷头的水处于垂直状态,则硅片的两侧无法被清洗,且清洗过后的水资源被浪费的问题。
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,包括箱体,所述箱体底部的两侧均固定连接有底座,所述箱体顶部的左侧通过固定座固定连接有转动电机,所述转动电机的输出端固定连接有转动盘,所述转动盘的右侧固定来连接有短杆,所述短杆的外表面活动连接有摆动杆,所述摆动杆的一侧开设有通槽,所述短杆的外表面与通槽的内表面滑动连接,所述摆动杆的底端贯穿箱体并延伸至箱体的内部,所述摆动杆的底端固定连接有分叉杆,所述分叉杆的外表面套设有清理海绵。
优选的,所述箱体内壁的两侧之间固定连接有过滤板,所述箱体的左侧固定连接有固定座,所述固定座的顶部固定连接有抽水泵,所述抽水泵的抽水端固定连接有管道,所述管道的右端贯穿箱体并延伸至箱体的内部。
优选的,所述箱体内壁的两侧均固定连接有固定块,所述固定块的内表面固定连接有喷水管,所述喷水管的一端贯穿箱体并延伸至箱体的外部,所述喷水管的外表面连通有喷头。
优选的,所述过滤板顶部的两侧与箱体内腔顶部的两侧均固定连接有滑块,所述滑块的一侧开设有滑槽,所述滑槽的内表面滑动连接有滑条,所述滑条的一侧固定连接有置物板,所述置物板的一侧开设有通孔,所述通孔内表面的两侧均固定连接有限位框。
优选的,所述限位框的内表面固定连接有弹簧,所述弹簧的顶端固定连接有滑动块,所述滑动块的一端转动连接有弹性块。
优选的,所述通孔的数量设置有多个,且通孔均匀的分布在置物板的一侧。
有益效果
本实用新型提供了一种多晶硅铸锭硅片清洗设备。与现有技术相比具备以下有益效果:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造