[实用新型]一种多晶硅铸锭硅片清洗设备有效

专利信息
申请号: 201922275200.9 申请日: 2019-12-18
公开(公告)号: CN210743924U 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 肖真方 申请(专利权)人: 武汉百臻半导体科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 湖北天领艾匹律师事务所 42252 代理人: 程明
地址: 430000 湖北省武汉市中国(湖北)自*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 多晶 铸锭 硅片 清洗 设备
【说明书】:

实用新型公开了一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,包括箱体,所述箱体底部的两侧均固定连接有底座,所述箱体顶部的左侧通过固定座固定连接有转动电机,所述转动电机的输出端固定连接有转动盘,所述转动盘的右侧固定来连接有短杆,所述短杆的外表面活动连接有摆动杆,所述摆动杆的一侧开设有通槽,本实用新型涉及片清洗设备技术领域。该多晶硅铸锭硅片清洗设备,通过在箱体的顶部设置转动电机,配合转盘上的短杆和摆动杆,再利用分叉杆和清理海绵,从而带动清理海绵进行摆动,能够使得喷头对硅片进行冲洗时,与水流方向相垂直的硅片被其清理海绵推平,同时对硅片上的赃物进行擦洗,通过此结构对硅片进行清洗效果较为明显。

技术领域

本实用新型涉及片清洗设备技术领域,具体为一种多晶硅铸锭硅片清洗设备。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种,多晶硅铸锭硅片在作为电池材料的源头,随着光伏产业的发展,多晶硅铸锭硅片使用的数量也越来越多。

现有的多晶硅铸锭硅片清理设备,通常是采用物理清洗的方式对硅片进行清洗,即采用高压喷头对硅片进行清洗,在对其进行清洗时,若硅片与喷头的水处于垂直状态,则硅片的两侧无法被清洗,且只用水冲洗难以清理干净,且清洗过后的水资源并没有回收利用或回收利用率较低,因此导致水资源的浪费。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,解决了若硅片与喷头的水处于垂直状态,则硅片的两侧无法被清洗,且清洗过后的水资源被浪费的问题。

为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,包括箱体,所述箱体底部的两侧均固定连接有底座,所述箱体顶部的左侧通过固定座固定连接有转动电机,所述转动电机的输出端固定连接有转动盘,所述转动盘的右侧固定来连接有短杆,所述短杆的外表面活动连接有摆动杆,所述摆动杆的一侧开设有通槽,所述短杆的外表面与通槽的内表面滑动连接,所述摆动杆的底端贯穿箱体并延伸至箱体的内部,所述摆动杆的底端固定连接有分叉杆,所述分叉杆的外表面套设有清理海绵。

优选的,所述箱体内壁的两侧之间固定连接有过滤板,所述箱体的左侧固定连接有固定座,所述固定座的顶部固定连接有抽水泵,所述抽水泵的抽水端固定连接有管道,所述管道的右端贯穿箱体并延伸至箱体的内部。

优选的,所述箱体内壁的两侧均固定连接有固定块,所述固定块的内表面固定连接有喷水管,所述喷水管的一端贯穿箱体并延伸至箱体的外部,所述喷水管的外表面连通有喷头。

优选的,所述过滤板顶部的两侧与箱体内腔顶部的两侧均固定连接有滑块,所述滑块的一侧开设有滑槽,所述滑槽的内表面滑动连接有滑条,所述滑条的一侧固定连接有置物板,所述置物板的一侧开设有通孔,所述通孔内表面的两侧均固定连接有限位框。

优选的,所述限位框的内表面固定连接有弹簧,所述弹簧的顶端固定连接有滑动块,所述滑动块的一端转动连接有弹性块。

优选的,所述通孔的数量设置有多个,且通孔均匀的分布在置物板的一侧。

有益效果

本实用新型提供了一种多晶硅铸锭硅片清洗设备。与现有技术相比具备以下有益效果:

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