[实用新型]一种用于喷砂设备的TFT平面溅射靶材保护结构

说明书

本实用新型公开了一种用于喷砂设备的TFT平面溅射靶材保护结构，保护结构包括有紧贴于TFT平面溅射靶材的基片的上表面的第一保护层、贴附于基片的侧面的第二保护层以及包裹设置于TFT平面溅射靶材的背板两端部的第三保护层。其中，第一保护层完全覆盖于基片的上表面；第二保护层沿基片的边缘方向闭合设置，第二保护层的底边平齐于背板的绑定面，第二保护层的上边包覆于第一保护层的边缘；在背板的绑定面，两个第三保护层的内侧边与第二保护层的底边包围形成喷砂区。与现有技术相比，该保护结构能够对靶材的溅射区进行柔性保护，使溅射区的表面保持光洁，保持溅射镀膜的成膜质量。

技术领域

本实用新型涉及溅射靶材制备技术领域，尤其是涉及一种用于喷砂设备的TFT平面溅射靶材保护结构。

背景技术

在平面靶材的制备过程中，需要对靶材基板表面的进行高精度的溅射镀膜。为了避免机加工产生的毛刺、飞边、刀痕等微小突出物所引起的电弧影响镀膜质量，需要对靶材的非溅射区进行喷砂处理。平面靶的溅射区一般其两端为弧形边，中间为平行的直边，溅射区外侧的不规则区域，经常会有反溅射颗粒沉积，喷砂有利于异物吸附沉积。

在对非溅射区进行喷砂处理时，必须对溅射区进行隔离保护，以防止砂砾撞击造成粗糙度上升，在现有的喷砂保护结构中，仅能够对于平面靶进行人工喷砂处理，生产率低，而且设置于溅射区的保护层存在安装难度大，阻挡性能差，容易引入污染和残留。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种用于喷砂设备的TFT平面溅射靶材保护结构，能够对靶材的溅射区以及装夹区进行隔离保护，通过喷砂设备完成自动喷砂处理，使溅射区保持光洁，方便靶材端部和侧部的不规则部分进行喷砂处理。

为了实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：一种用于喷砂设备的TFT平面溅射靶材保护结构，保护结构包括有紧贴于TFT平面溅射靶材的基片的上表面的第一保护层、贴附于基片的侧面的第二保护层以及包裹设置于TFT平面溅射靶材的背板两端部的第三保护层。其中，第一保护层完全覆盖于基片的上表面；第二保护层沿基片的边缘方向闭合设置，第二保护层的底边平齐于背板的绑定面，第二保护层的上边包覆于第一保护层的边缘；在背板的绑定面，两个第三保护层的内侧边与第二保护层的底边包围形成喷砂区。该保护结构能够对靶材的溅射区进行柔性保护，使溅射区的表面保持光洁，保持溅射镀膜的成膜质量。

在进一步的技术方案中，第一保护层包括橡胶面板，橡胶面板的形状大小与基片的上表面的形状大小相同，橡胶面板的底面改性形成静电贴面，橡胶面板的静电贴面重叠紧贴于基片的上表面。

在进一步的技术方案中，第二保护层设置为喷砂保护膜，这一喷砂保护膜的的厚度设置为0.2mm～0.7mm。

在进一步的技术方案中，两个第三保护层分别设置为喷砂保护膜，这两个喷砂保护膜的厚度设置为0.3～0.8。

在进一步的技术方案中，TFT平面溅射靶材的背板的两端部分别设置有用于连接溅射设备的连接部，连接部包括有多个内螺纹穿孔，第三保护层分别覆盖相应的内螺纹穿孔。

在进一步的技术方案中，橡胶面板的硬度设置为邵氏硬度A型20～25。

在进一步的技术方案中，橡胶面板的厚度设置为2mm～7mm。

在进一步的技术方案中，第三保护层沿背板的周围方向包裹设置，第三保护层遮挡于背板端部的绑定面、侧面、端面以及底面。

在进一步的技术方案中，喷砂区包括有两个沿TFT平面溅射靶材长度方向的长度侧面和两个沿TFT平面溅射靶材宽度方向的宽度侧面。长度侧面包括背板的绑定面部分以及背板的侧面部分，绑定面部分由背板的长度边与第二保护层的底边的长度部分间隔形成；宽度侧面由第三保护层的内侧边与第二保护层的底边的宽度部分间隔形成，第三保护层的内侧边平行于基片相应的宽度侧边。长度侧面的绑定面部分的宽度与宽度侧面的宽度大小相同。