[实用新型]一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带

权利要求书

1.一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带，其特征在于，包括机台、传输装置、罩体、清洗装置以及除水降温装置；所述传输装置安装在机台中，所述传输装置上按顺序设置有进料区、输送区、清洗区、除水区、出料区及输送带，所述输送带上设置有若干半导体，且所述输送带采用防静电材料制成，用以吸收所述半导体的静电；所述罩体设置在所述机台顶部；所述清洗装置设置在所述机台中，所述清洗装置为可用以喷洒的清洗液，用以清洗所述半导体表面，并设置在清洗区；所述除水降温装置用以去除预设在半导体上的清洗液、且设置在所述机台的除水区中。

2.根据权利要求1所述的一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带，其特征在于，所述传输装置还包括经动力源带动的若干输送轮，且所述输送带包覆于所述输送轮的外部。

3.根据权利要求1所述的一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带，其特征在于，所述罩体中还包括压制装置，所述压制装置抵触在所述半导体一侧面上且设置在所述罩体中，所述压制装置还设置在所述传输装置上方，所述压制装置的设置区域自所述输送区延伸至所述除水区的区间。

4.根据权利要求3所述的一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带，其特征在于，所述压制装置还包括经动力源所带动的若干传动轮，所述传动轮用以支撑所述半导体另一侧面。

5.根据权利要求1所述的一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带，其特征在于，所述清洗装置还包括设置在所述清洗区内且用以喷洒所述清洗液于所述半导体表面上的若干喷头，且所述喷头透过管路连接有将所述清洗液加压送至所述喷头上的加压泵，而所述加压泵连接有用以加热所述清洗液的若干加热器。

6.根据权利要求1所述的一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带，其特征在于，所述除水降温装置还包括用以去除附着于所述半导体上的所述清洗液的风刀组。

7.根据权利要求6所述的一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带，其特征在于，所述风刀组吹出气体至所述半导体表面所产生静电被所述输送带所吸收，且设置在输送带中的输送轮为金属所制成，输送轮接触所述输送带并将其所吸附的静电予以吸收，已吸收静电的输送轮再将静电导至所述机台，再由所述机台将静电导至地面。

8.根据权利要求1所述的一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带，其特征在于，所述罩体包括设置在所述清洗区内的闸门装置，所述闸门装置设置在所述清洗区的输入侧和输出侧，且所述清洗区的所述输入侧及所述输出侧均设有可伸入于所述传输装置下方的挡门。