[实用新型]储液设备以及晶圆处理装置

说明书

该实用新型涉及一种储液设备以及晶圆处理装置，能够提高旋涂至目标表面的光阻层的质量，避免最终的光刻结果不佳，提高晶圆生产的良率。其中所述储液设备包括液体缓冲槽，用于盛装液体，还包括超声波震荡器，安装至所述液体缓冲槽，用于使所述液体缓冲槽内盛装的液体震动，以排出所述液体缓冲槽内盛装的液体内的气泡；所述超声波震荡器内设置有换能器，由所述换能器将超声波发射至所述液体缓冲槽内。

技术领域

本实用新型涉及晶圆生产设备领域，具体涉及一种储液设备以及晶圆处理装置。

背景技术

在半导体光刻技术中，需要将光阻液旋涂到目标表面，以在目标表面形成光阻层，便于后续进行光刻等工艺。

然而，现有技术中在将所述光阻液旋涂到目标表面时，形成的光阻层内经常会出现异常问题，导致最终的光刻结果不佳，影响晶圆生产的良率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种储液设备以及晶圆处理装置，能够提高旋涂至目标表面的光阻层的质量，避免最终的光刻结果不佳，提高晶圆生产的良率。

为了解决上述技术问题，以下提供了一种储液设备，包括液体缓冲槽，用于盛装液体，还包括超声波震荡器，安装至所述液体缓冲槽，用于使所述液体缓冲槽内盛装的液体震动，以排出所述液体缓冲槽内盛装的液体内的气泡；所述超声波震荡器内设置有换能器，由所述换能器将超声波发射至所述液体缓冲槽内。

可选的，所述超声波震荡器均匀分布于所述圆柱形液体缓冲槽侧壁表面。

可选的，所述超声波震荡器的震荡频次范围为25KHz至5MHz。

可选的，所述换能器包括两个发射头，所述两个发射头发射的波之间呈一夹角。

可选的，所述夹角的角度范围为16°至35°。

可选的，所述液体缓冲槽为密封液体缓冲槽，表面还设置有排气孔，与所述密封液体缓冲槽内部连通，用于排出液体在震动过程中排出的气体。

为了解决上述技术问题，以下还提供了一种晶圆处理装置，包括所述储液设备。

可选的，还包括：储液瓶，通过连接管路连通至所述液体缓冲槽，用于储蓄待通入至所述液体缓冲槽内的液体；气体源，连通至所述储液瓶，用于调整所述储液瓶内压强，以便将所述储液瓶内的液体压入所述液体缓冲槽。

可选的，所述储液瓶表面设置有通气管路，所述通气管路连通所述储液瓶内部，并连通至所述气体源，用于向所述储液瓶内部通入气体，以将所述储液瓶内的液体压入所述液体缓冲槽内。

可选的，所述气体源包括氮气源。

本实用新型的储液设备以及晶圆处理装置使用超声波震荡器来将液体缓冲槽内装盛的液体内的气泡震出，可以有效防止在使用这些液体时，液体内带有的气泡影响使用效果。例如在所述液体为光阻液时，使用所述储液设备以及晶圆处理装置，能够防止光阻液在旋涂至目标表面时仍含有气泡，有效提高旋涂至目标表面的光阻层的质量，避免最终的光刻结果不佳，提高晶圆生产的良率。

附图说明

图1为本实用新型的一种具体实施方式中储液设备的结构示意图。

图2为本实用新型的一种具体实施方式中液体缓冲槽的俯视示意图。

图3为本实用新型的一种具体实施方式中换能器出射超声波的示意图。

图4为本实用新型的一种具体实施方式中晶圆处理装置的俯视示意图。

具体实施方式