[实用新型]电镀环及电镀设备有效
| 申请号： | 201922166030.0 | 申请日： | 2019-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN211079378U | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 任兴润 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | C25D7/12 | 分类号： | C25D7/12;C25D17/00;C25D17/08;C25D21/08 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 230001 安徽省合肥市蜀山*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电镀 设备 | ||
1.一种电镀环，其特征在于，包括：
电镀环，用于放置晶圆；
定位销，位于电镀环上，用于稳固晶圆；
所述定位销分为两部分：与电镀环连接的基座部，与晶圆接触的接触部；
其中，所述接触部设计为椭圆柱结构。
2.根据权利要求1所述的电镀环，其特征在于，所述接触部倾斜设置在所述基座部上。
3.根据权利要求1所述的电镀环，其特征在于，所述椭圆柱结构的高为3-8mm。
4.根据权利要求3所述的电镀环，其特征在于，所述接触部设计为至少两个间隔排列的椭圆柱结构。
5.根据权利要求4所述的电镀环，其特征在于，所述间隔排列的椭圆柱结构之间间隔为1-2mm。
6.根据权利要求5所述的电镀环，其特征在于，所述椭圆柱结构的端面为椭圆形，端面长轴为4-10mm，端面短轴为2-4mm。
7.根据权利要求3所述的电镀环，其特征在于，所述接触部设计为单个椭圆柱结构。
8.根据权利要求7所述的电镀环，其特征在于，所述接触部设计为单个椭圆柱结构，所述椭圆柱结构的端面为椭圆形，端面长轴为6-10mm，端面短轴为3-6mm。
9.根据权利要求1～8任意一项所述的电镀环，其特征在于，所述椭圆柱和晶圆接触点的切面方向，与所述椭圆柱结构端面的长轴夹角为30-90度。
10.一种电镀设备，其特征在于，包括：
电镀机台，用于进行晶圆电镀工艺；
腔体，用于进行晶圆清洁工艺；
以及如权利要求1-9所述的电镀环。
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