[实用新型]一种磁控溅射镀膜仪换样装置

权利要求书

1.一种磁控溅射镀膜仪换样装置，其特征在于，包括真空室主腔（101）及真空室副腔（102），所述真空室主腔（101）与真空室副腔（102）之间中间腔室，所述中间腔室分别与真空室主腔（101）与真空室副腔（102）相连通，所述中间腔室内部设有导轨（3），所述导轨（3）上配合设置导轨小车（7），所述导轨小车（7）上设有基片储备盘（5），所述基片储备盘（5）上沿其周向设有一组基片架（6），基片架（6）上设有基片（607）；所述导轨小车（7）在导轨（3）上水平移动，从而将基片架（6）在真空室主腔（101）与真空室副腔（102）之间进行转移，进而实现基片（607）的转移。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜仪换样装置，其特征在于，所述真空室主腔（101）内设有基片盘（2），所述基片盘（2）上沿其周向设有基片盘边缘凸起（202），所述基片架（6）的边缘处有楔形凸起，且楔形凸起与基片盘边缘凸起（202）相配合，从而实现基片架（6）的定位。

3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜仪换样装置，其特征在于，所述基片架（6）采用拱门型结构，包括半圆形架体及设置在半圆形架体端部的长方形架体。

4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜仪换样装置，其特征在于，所述基片架（6）端部设有销孔，所述基片架（6）端部插接设置圆柱体托（606），且圆柱体托（606）通过销轴插接安装在销孔上，实现与基片架（6）的铰接，所述圆柱体托（606）端部固定设置长方体托（602）。

5.所述根据权利要求4所述的一种磁控溅射镀膜仪换样装置，其特征在于，所述基片储备盘（5）上设有固定端（603），所述长方体托（602）与固定端（603）插接配合。

6.根据权利要求4所述的一种磁控溅射镀膜仪换样装置，其特征在于，所述圆柱体托（606）左右位置分别设有左弹簧（605）及右弹簧（604），且左弹簧（605）及右弹簧（604）一端连接于圆柱体托（606）上，另一端连接于基片架（6）上。

7.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜仪换样装置，其特征在于，所述中间腔室上设有插板阀（103），并通过插板阀（103）将真空室主腔（101）与真空室副腔（102）之间进行分隔。

8.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜仪换样装置，其特征在于，所述基片储备盘（5）底部设有真空电机（4），所述真空电机（4）与基片储备盘（5）传动连接。