[实用新型]蒸发镀膜装置有效
申请号: | 201922153662.3 | 申请日: | 2019-12-04 |
公开(公告)号: | CN211497762U | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 王君;依君;粱惠朋 | 申请(专利权)人: | 沈阳爱科斯科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/56 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 毕翔宇 |
地址: | 110000 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸发 镀膜 装置 | ||
本申请涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种蒸发镀膜装置。一种蒸发镀膜装置,包括镀膜室、抽真空组件以及辅助抽真空件;辅助抽真空件通过第一管道与镀膜室连通,辅助抽真空件用于抽取镀膜室内的包括蒸汽的部分气体,抽真空组件通过第二管道与镀膜室连通,抽真空组件用于抽取镀膜室内水蒸汽。镀膜室内主要存在两部分的气体,其中一部分气体为水蒸汽,另一部分为氧气等气体,首先利用辅助抽真空件对镀膜室内的水蒸汽迅速捕集,然后再利用抽真空组件对镀膜室内的氧气等气体进行捕集;对镀膜室内的气体分别利用不同组件分别进行捕集,大大缩短了对镀膜室抽真空的时间,不仅降低了各个组件的耗电量,又提供了工作效率。
技术领域
本申请涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种蒸发镀膜装置。
背景技术
蒸发镀膜装置在进行蒸发镀膜的过程中,首先需要对蒸发镀膜装置进行抽真空处理,然而现有的抽真空设备对蒸发镀膜装置抽真空的工作效率低且耗电量。
实用新型内容
本申请的目的在于提供一种蒸发镀膜装置,在一定程度上解决现有技术中抽真空装置工作效率低且耗电量大的技术问题。
本申请提供了一种蒸发镀膜装置,包括镀膜室、抽真空组件以及辅助抽真空件;
所述辅助抽真空件通过第一管道与所述镀膜室连通,所述辅助抽真空件用于抽取所述镀膜室内的水蒸汽,所述抽真空组件通过第二管道与所述镀膜室连通,所述抽真空组件用于抽取所述镀膜室内的部分气体。
在上述技术方案中,进一步地,所述辅助抽真空件为低温捕集器,所述低温捕集器设置在所述镀膜室的外部。
在上述技术方案中,进一步地,所述抽真空组件包括低温泵,所述低温泵设置在所述镀膜室的底部;所述第二管道上设置有气动插板阀,所述气动插板阀用于控制所述低温泵与所述镀膜室的连通与否。
在上述技术方案中,进一步地,所述低温泵的数量为多个。
在上述技术方案中,进一步地,所述抽真空组件还包括机械泵和罗茨泵;
所述机械泵与所述罗茨泵之间通过第一管接件连接,所述罗茨泵通过第二管接件与所述镀膜室的阀门组件连通,所述阀门组件用于控制所述罗茨泵与所述镀膜室的连通与否。
在上述技术方案中,进一步地,所述镀膜室设置有多个,多个所述镀膜室沿第一方向间隔排布,每个所述镀膜室上的阀门组件均与所述第二管接件连接。
在上述技术方案中,进一步地,所述镀膜室内部设置有电子枪、坩埚组件、加热组件以及填料组件;
所述填料组件设置在所述镀膜室的侧壁上,且设置在所述坩埚组件的上方,所述填料组件用于将物料添加到所述坩埚组件内,所述电子枪设置在所述坩埚组件的侧部,用于向所述坩埚组件内的物料发射电子束;所述加热组件用于加热所述坩埚组件。
在上述技术方案中,进一步地,所述填料组件包括进料部以及驱动组件;
所述进料部包括储料仓、与所述储料仓连通的进料管和出料管,所述进料管与所述出料管之间设置有进料开关,所述进料开关用于控制所述进料管与所述出料管之间连通或断开;
所述驱动组件用于驱动所述进料开关运行,以使所述进料管与所述出料管之间连通或关断。
在上述技术方案中,进一步地,所述镀膜室内设置有旋转架,所述旋转架用于承载待铸件并带动所述待铸件旋转;
所述旋转架包括固定轴以及设置在所述固定轴上的承载件,所述待铸件能够悬挂于所述承载件上。
在上述技术方案中,进一步地,还包括支撑组件,所述支撑组件设置在所述镀膜室的下方,用于支撑所述镀膜室;所述支撑组件内形成有容纳空间,所述容纳空间用于容纳所述低温泵。
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