[实用新型]蒸发镀膜装置

权利要求书

1.一种蒸发镀膜装置，其特征在于，包括镀膜室、抽真空组件以及辅助抽真空件；

所述辅助抽真空件通过第一管道与所述镀膜室连通，所述辅助抽真空件用于抽取所述镀膜室内的水蒸汽，所述抽真空组件通过第二管道与所述镀膜室连通，所述抽真空组件用于抽取所述镀膜室内的部分气体。

2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述辅助抽真空件为低温捕集器。

3.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述抽真空组件包括低温泵，所述低温泵设置在所述镀膜室的底部；所述第二管道上设置有气动插板阀，所述气动插板阀用于控制所述低温泵与所述镀膜室的连通与否。

4.根据权利要求3所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述低温泵的数量为多个。

5.根据权利要求3所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述抽真空组件还包括机械泵和罗茨泵；

所述机械泵与所述罗茨泵之间通过第一管接件连接，所述罗茨泵通过第二管接件与所述镀膜室的阀门组件连通，所述阀门组件用于控制所述罗茨泵与所述镀膜室的连通与否。

6.根据权利要求5所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室设置有多个，多个所述镀膜室沿第一方向间隔排布，每个所述镀膜室上的阀门组件均与所述第二管接件连接。

7.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室内部设置有电子枪、坩埚组件、加热组件以及填料组件；

所述填料组件设置在所述镀膜室的侧壁上，且设置在所述坩埚组件的上方，所述填料组件用于将物料添加到所述坩埚组件内，所述电子枪设置在所述坩埚组件的侧部，用于向所述坩埚组件内的物料发射电子束；所述加热组件用于加热所述坩埚组件。

8.根据权利要求7所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述填料组件包括进料部以及驱动组件；

所述进料部包括储料仓、与所述储料仓连通的进料管和出料管，所述进料管与所述出料管之间设置有进料开关，所述进料开关用于控制所述进料管与所述出料管之间连通或断开；

所述驱动组件用于驱动所述进料开关运行，以使所述进料管与所述出料管之间连通或关断。

9.根据权利要求8所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室内设置有旋转架，所述旋转架用于承载待铸件并带动所述待铸件旋转；

所述旋转架包括固定轴以及设置在所述固定轴上的承载件，所述待铸件能够悬挂于所述承载件上。

10.根据权利要求3所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，还包括支撑组件，所述支撑组件设置在所述镀膜室的下方，用于支撑所述镀膜室；所述支撑组件内形成有容纳空间，所述容纳空间用于容纳所述低温泵。