[实用新型]一种管式PECVD净化台设备有效
申请号: | 201922122328.1 | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN210974869U | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 周佑丞;张春成;李晔纯;成秋云;吴得轶 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50;H01L31/18 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 戴玲 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pecvd 净化 设备 | ||
本实用新型公开了一种管式PECVD净化台设备,包括主框架、上下料系统、输送滑台和缓存架,缓存架设于主框架内,且缓存架包括多层用于存放石墨舟的缓存位,主框架对应每层缓存位设有反应炉对接窗口,输送滑台设于主框架的底部用于输送石墨舟进出主框架,上下料系统包括三轴移动模组和设于三轴移动模组上的托舟机构,三轴移动模组用于驱动托舟机构与输送滑台对接、用于驱动托舟机构与各缓存位对接以及用于驱动托舟机构穿过反应炉对接窗口进出对应的反应炉内。本实用新型仅通过一个三轴上下料系统,可实现PECVD设备石墨舟进出反应炉、缓存架及输送滑台全部动作,简化了设备结构的复杂性,优化了设备内部操作空间布局,提升石墨舟传送速度。
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池制备设备,尤其涉及一种管式PECVD净化台设备。
背景技术
PECVD(等离子增强化学气相沉积)设备主要利用等离子体聚合法在太阳能电池片上沉积形成氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。而太阳能电池片进出PECVD反应炉由石墨舟进行装载,石墨舟在设备内部主要由推舟机构及上下料机械手实现其从反应炉到缓存架及滑台等位置的循环运动。
目前,PECVD设备一般有多管同时进行氮化硅减反射膜沉积工艺,每管之间的化学气相沉积反应是相互独立的,以目前常用的传统五管PECVD设备为例,每一管由一个单独的推舟机构负责石墨舟进出反应炉,该推舟机构具有两套电机系统用于实现石墨舟进出反应炉的上下和前进后退运动,五套推舟即配备十套电机及伺服驱动系统;同时,石墨舟在设备内部的流转(比如石墨舟出炉后上缓存架冷却、石墨舟通过滑台进入插片机插取硅片等动作)仍需配备一套专门的上下料机械手机构,该上下料机械手机构具有三套电机及伺服驱动系统用于实现五管推舟之间的竖直运动以及滑台、缓存架及推舟间的横向运动,导致其具有结构复杂、所需成本高、互换性差,故障率高等缺点。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种结构简单、经济节约、运行稳定的管式PECVD净化台设备。
为解决上述技术问题,本实用新型采用以下技术方案:
一种管式PECVD净化台设备,包括主框架、上下料系统、输送滑台和缓存架,所述缓存架设于主框架内,且缓存架包括多层用于存放石墨舟的缓存位,所述主框架对应每层缓存位设有反应炉对接窗口,所述输送滑台设于主框架的底部用于输送石墨舟进出主框架,所述上下料系统包括三轴移动模组和设于三轴移动模组上的托舟机构,所述三轴移动模组用于驱动托舟机构与输送滑台对接、用于驱动托舟机构与各缓存位对接以及用于驱动托舟机构穿过反应炉对接窗口进出对应的反应炉内。
作为上述技术方案的进一步改进,所述三轴移动模组包括X轴移动模块、Y轴移动模块和Z轴移动模块,所述Y轴移动模块设于Z轴移动模块的滑块上,所述X轴移动模块设于Y轴移动模块的滑块上,所述托舟机构设于X轴移动模块的滑块上。
作为上述技术方案的进一步改进,所述Z轴移动模块设置两组,所述Y轴移动模块设置两组,两组Y轴移动模块分别设于两组Z轴移动模块的滑块上,所述X轴移动模块设于两个Y轴移动模块的滑块上。
作为上述技术方案的进一步改进,所述托舟机构包括碳化硅杆、支撑杆和固定座,所述碳化硅杆与支撑杆连接,所述支撑杆与固定座连接,所述固定座与X轴移动模块的滑块连接,所述碳化硅杆与支撑杆均与X轴移动模块平行。
作为上述技术方案的进一步改进,所述固定座设有两个安装孔,所述支撑杆一端穿设于两个安装孔内,所述支撑杆位于安装孔内的表面设有多个调节块,所述调节块上设有螺纹孔,所述固定座上对应每个调节块设有调整螺栓,所述调整螺栓伸入安装孔内与调节块的螺纹孔配合。
作为上述技术方案的进一步改进,所述调节块为楔块。
作为上述技术方案的进一步改进,所述碳化硅杆与支撑杆通过至少一个卡箍连接。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于:
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的