[实用新型]一种管式PECVD净化台设备有效
申请号: | 201922122328.1 | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN210974869U | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 周佑丞;张春成;李晔纯;成秋云;吴得轶 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50;H01L31/18 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 戴玲 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pecvd 净化 设备 | ||
1.一种管式PECVD净化台设备,其特征在于:包括主框架(1)、上下料系统、输送滑台(2)和缓存架(3),所述缓存架(3)设于主框架(1)内,且缓存架(3)包括多层用于存放石墨舟(4)的缓存位(31),所述主框架(1)对应每层缓存位(31)设有反应炉对接窗口(11),所述输送滑台(2)设于主框架(1)的底部用于输送石墨舟(4)进出主框架(1),所述上下料系统包括三轴移动模组(5)和设于三轴移动模组(5)上的托舟机构(6),所述三轴移动模组(5)用于驱动托舟机构(6)与输送滑台(2)对接、用于驱动托舟机构(6)与各缓存位(31)对接以及用于驱动托舟机构(6)穿过反应炉对接窗口(11)进出对应的反应炉内。
2.根据权利要求1所述的管式PECVD净化台设备,其特征在于:所述三轴移动模组(5)包括X轴移动模块(51)、Y轴移动模块(52)和Z轴移动模块(53),所述Y轴移动模块(52)设于Z轴移动模块(53)的滑块上,所述X轴移动模块(51)设于Y轴移动模块(52)的滑块上,所述托舟机构(6)设于X轴移动模块(51)的滑块上。
3.根据权利要求2所述的管式PECVD净化台设备,其特征在于:所述Z轴移动模块(53)设置两组,所述Y轴移动模块(52)设置两组,两组Y轴移动模块(52)分别设于两组Z轴移动模块(53)的滑块上,所述X轴移动模块(51)设于两个Y轴移动模块(52)的滑块上。
4.根据权利要求2或3所述的管式PECVD净化台设备,其特征在于:所述托舟机构(6)包括碳化硅杆(61)、支撑杆(62)和固定座(63),所述碳化硅杆(61)与支撑杆(62)连接,所述支撑杆(62)与固定座(63)连接,所述固定座(63)与X轴移动模块(51)的滑块连接,所述碳化硅杆(61)与支撑杆(62)均与X轴移动模块(51)平行。
5.根据权利要求4所述的管式PECVD净化台设备,其特征在于:所述固定座(63)设有两个安装孔(631),所述支撑杆(62)一端穿设于两个安装孔(631)内,所述支撑杆(62)位于安装孔(631)内的表面设有多个调节块(64),所述调节块(64)上设有螺纹孔,所述固定座(63)上对应每个调节块(64)设有调整螺栓(65),所述调整螺栓(65)伸入安装孔(631)内与调节块(64)的螺纹孔配合。
6.根据权利要求5所述的管式PECVD净化台设备,其特征在于:所述调节块(64)为楔块。
7.根据权利要求4所述的管式PECVD净化台设备,其特征在于:所述碳化硅杆(61)与支撑杆(62)通过至少一个卡箍(66)连接。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的