[实用新型]一种半导体化学清洗设备

权利要求书

1.一种半导体化学清洗设备，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)的内腔下部设置有镂空隔板(2)，所述镂空隔板(2)的顶端对称设置有限位条(3)，所述壳体(1)的内腔下部且位于所述镂空隔板(2)的下方设置有转轴(4)，所述转轴(4)贯穿所述壳体(1)并延伸至其外侧，所述转轴(4)位于所述壳体(1)外侧的一端设置有电机(8)，所述转轴(4)的轴壁对称设置有搅动板(5)，所述搅动板(5)上均设置有若干通孔(6)，所述通孔(6)内均设置有扇叶(7)，所述镂空隔板(2)的顶端两侧对称设置有滑槽(9)，所述滑槽(9)滑动连接有推板(10)，所述推板(10)的顶端设置有推动杆(11)，所述推动杆(11)贯穿所述壳体(1)并延伸至其上方，所述壳体(1)的顶端设置有与所述推动杆(11)相匹配的通槽(12)，所述推动杆(11)的上部且位于所述通槽(12)的上方设置有限位块(13)，所述壳体(1)远离所述通槽(12)的一侧铰接有盖板(14)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体化学清洗设备，其特征在于，所述镂空隔板(2)的顶端且位于所述限位条(3)之间设置有半导体篮(201)，所述半导体篮(201)的内侧对称设置有卡块(202)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体化学清洗设备，其特征在于，所述推板(10)的底端对称设置有与所述滑槽(9)相匹配的滑块(1001)，所述推板(10)通过所述滑块(1001)与所述滑槽(9)滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体化学清洗设备，其特征在于，所述壳体(1)的上部一侧设置有控制面板(101)，所述控制面板(101)与所述电机(8)电连接。

5.根据权利要求1所述的一种半导体化学清洗设备，其特征在于，所述盖板(14)的顶端一侧设置有把手(1401)，所述推动杆(11)的顶端设置有握块(1101)。