[实用新型]一种湿法蚀刻机台

权利要求书

1.一种湿法蚀刻机台，所述湿法蚀刻机台为密闭的腔室，其特征在于，包括载入端结构；所述载入端结构包括第一感应门、载入端、第一传导机构和传感器，所述湿法蚀刻机台的一侧设置有所述第一感应门，所述载入端位于所述湿法蚀刻机台内，所述第一传导机构的一端与所述第一感应门连接，所述第一传导机构的另一端与所述载入端连接，所述第一传导机构的一部分延伸到所述第一感应门外，晶舟放置在所述第一传导机构上，所述第一传导机构用于传送所述晶舟，所述湿法蚀刻机台上设置有多个传感器，所述多个传感器用于分别感应所述晶舟和第一传导机构的传导位置。

2.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻机台，其特征在于，还包括载出端结构，所述载出端结构与所述载入端结构相对称，所述载出端结构包括设置在所述湿法蚀刻机台另一侧的第二感应门、载出端、第二传导机构和传感器，所述第一感应门和所述第二感应门为两个相同的感应门，所述第一传导机构和所述第二传导机构为两个相同的传导机构。

3.根据权利要求1或2所述的一种湿法蚀刻机台，其特征在于，所述第一传导机构包括有导轨和载台，所述载台的底部设置有滑轮，所述载台通过滑轮与导轨的配合进行往返运动。

4.根据权利要求3所述的一种湿法蚀刻机台，其特征在于，所述感应门包括中间门和大门，所述大门的一端铰接于所述湿法蚀刻机台，所述中间门设置在导轨中间位置，所述中间门为滑动门，所述大门具有开口，所述开口和所述中间门之间具有连接板。

5.根据权利要求4所述的一种湿法蚀刻机台，其特征在于，所述连接板上设置有容纳所述导轨的槽，所述导轨连接于所述连接板上的槽。

6.根据权利要求4所述的一种湿法蚀刻机台，其特征在于，所述大门、所述中间门和所述连接板之间设置有有密封圈。

7.根据权利要求3所述的一种湿法蚀刻机台，其特征在于，所述载台上相向分布有数量至少为2个的卡环，所述卡环用于固定晶舟。

8.根据权利要求3所述的一种湿法蚀刻机台，其特征在于，包括压力传感器或者红外传感器，所述压力传感器设置在所述载台上，所述压力传感器用于感应所述晶舟的存在，所述红外传感器设置在所述感应门上，所述红外传感器感应所述载台的存在。

9.根据权利要求3所述的一种湿法蚀刻机台，其特征在于，在所述载入端上设置有位置传感器，所述位置传感器感应进入所述载入端的所述载台。

10.根据权利要求1或2所述的一种湿法蚀刻机台，其特征在于，所述载入端上设置有手臂抓夹传感器，在所述载入端的上方设置有手臂抓夹，所述手臂抓夹传感器感应进入所述载入端的所述晶舟，所述手臂抓夹用于抓取所述晶舟。