[实用新型]一种镀膜载具及其定位结构

说明书

一种镀膜载具及其定位结构，该镀膜载具包括承载部及转轴、工件盘，其特征在于：所述承载部由转轴的旋转轴线区分为两侧；所述承载部一侧的外周面上设置有定位部，且承载部上设置有配重部，该配重部偏心设置于承载部上定位部所在的一侧，以使得承载部重心偏向定位部所在一侧；所述工件盘上对应于镀膜载具开设有安装缺口，该安装缺口沿工件盘的轴向贯穿所述工件盘；所述工件盘上对应于转轴开设有定位孔，承载部通过转轴转动设置于所述工件盘上，所述镀膜载具在工件盘上具有两个工位；所述工件盘上对应于两个工位上所述定位部均开设有定位槽。本实用新型的镀膜载具的重心偏向定位部一侧，在光学镀膜机工作过程中，保证了镀膜载具在镀膜过程中的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备领域，尤其适用于半导体激光器腔面镀膜载具及其定位结构。

背景技术

镀膜是通过物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜或金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。不同应用对透过率有不同的要求，需要采用光学镀膜方法，光学镀膜机就是一种专门用于光学镀膜的设备。

光学镀膜机具有镀膜腔室，镀膜腔室中设有工件盘，镀膜载具置于工件盘上，而在光学镀膜机中，由于分子泵、机械泵等影响，镀膜腔室难免存在震动，而对于镀膜腔室内的镀膜载具来说，一旦镀膜载具发生倾斜，将会影响镀膜的均匀性。

发明内容

本实用新型提供一种镀膜载具及其定位结构，其目的在于解决镀膜过程中镀膜载具倾斜的问题，以保证镀膜的均匀性。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种镀膜载具，该镀膜载具包括承载部及转轴，其创新在于：

所述承载部由转轴的旋转轴线区分为两侧；

所述承载部一侧的外周面上设置有定位部，且承载部上设置有配重部，该配重部偏心设置于承载部上定位部所在的一侧，以使得承载部重心偏向定位部所在一侧。

为达到上述目的，本实用新型采用的另一技术方案是：包括上述技术方案的镀膜载具及工件盘；

所述工件盘上对应于镀膜载具开设有安装缺口，该安装缺口沿工件盘的轴向贯穿所述工件盘；

所述工件盘上对应于转轴开设有定位孔，承载部通过转轴转动设置于所述工件盘上，所述镀膜载具在工件盘上具有两个工位；

所述工件盘上对应于两个工位上所述定位部均开设有定位槽。

上述方案中，所述承载部的主体为一中空的框状构件。

上述方案中，所述定位部为凸设在承载部外周面的至少一个凸台。

上述方案中，所述转轴伸出承载部外，所述配重部为偏心设置在转轴上的手柄；根据实际需要也可以是设置在承载部上的配重块等，能够使承载部重心偏移即可。

上述方案中，对应于所述承载部的中空区域设置有盖板，防止辉光泄漏，薄膜绕镀至另一侧腔面，影响薄膜成分比例，最终影响薄膜性能；所述盖板可拆卸设置在承载部上，其作用在于：防止辉光泄漏，薄膜绕镀至后腔面，影响薄膜成分比例，最终影响薄膜性能。对于半导体激光器芯片腔面镀膜是在芯片的后腔面溅射高反射膜（多层膜）,在芯片的前腔面溅射减反射膜（一般为单层膜或双层膜），一般HR反射膜的反射率带宽较大，AR绕镀到后腔面膜，影响较小。而后腔面膜绕镀在前腔面膜，会导致前腔面膜厚度及折射率具有较大变化，最终影响器件性能。

上述方案中，所述转轴包括前轴和后轴，前轴和后轴同轴且间隔布置。

优选地，所述前轴由其根部至端部为渐缩结构，便于导向插入工件盘上相应的定位孔中。

上述方案中，所述安装缺口的数量为至少一个，当安装缺口数量为多个时，各安装缺口沿工件盘的周向间隔布置。