[实用新型]一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置

权利要求书

1.一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置，其特征在于：包括真空腔室和设置在该真空腔室中的坩埚、坩埚遮挡盘、工件架、离子源、离子遮挡盘、主晶振、光学监控、辅晶振，所述坩埚内放置有蒸发材料，所述坩埚和离子源均置于所述真空腔室底部，所述坩埚遮挡盘和离子遮挡盘分别可转动式固定在所述坩埚和离子源的上方，所述用于监控镀膜参数的主晶振和光学监控均设置在所述真空腔室的顶部，所述用于监控材料蒸发参数的辅晶振设置在所述真空腔室的侧壁上，所述工件架位于所述主晶振下方。

2.根据权利要求1所述一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述工件架为可旋转式的球形结构。

3.根据权利要求1所述一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述坩埚由一电子枪进行加热。

4.根据权利要求1所述一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述坩埚、坩埚遮挡盘和辅晶振的数量均为两个。

5.根据权利要求1所述一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述辅晶振的膜料接收面垂直于该接收面中心与所述坩埚中心的连接线。

6.根据权利要求1所述一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述坩埚和工件架之间设置有一可旋转的修正挡叶。