[实用新型]滚筒式磁控溅射镀膜机

说明书

本实用新型涉及一种滚筒式磁控溅射镀膜机，通过设置在滚筒座上的导电滚轮与溅射滚筒的外侧壁面接触导电的方式，对溅射内腔中的待镀工件施加偏压，导电滚轮可适应于溅射滚筒的转动过程中的电传导，磁控溅射工艺过程中的高温真空环境不会对导电滚轮产生不利影响，且导电滚轮不会污染真空镀膜环境。进一步地，导电滚轮起到导电作用的同时还起到支撑溅射滚筒的作用，承担溅射滚筒及其中的待镀工件的重量，驱动装置仅需进行传动而不承担压力，可减轻驱动装置的负担，达到溅射滚筒平稳转动的效果。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域，特别是涉及一种滚筒式磁控溅射镀膜机。

背景技术

相比电镀、喷涂等工艺，磁控溅射真空镀膜具有膜基结合力好、膜层光滑致密、沉积速率快、膜层元素和结构易于控制、工艺过程清洁环保等优点，是目前用于高档装饰性镀膜的主流技术。

磁控溅射技术要求装载待镀物的转架或立柱具有导电能力，即设备需具备可在待镀物上施加偏压的功能。现有磁控溅射技术中，转架的导电装置通常采用石墨电刷，石墨电刷与转架相连即可对待镀物施加偏压。然而，镀膜时的溅射物会在石墨电刷上沉积，加之工艺过程中的高温真空环境，会降低石墨电刷的使用寿命。另外，石墨电刷上的石墨等粉尘若保护不当也会污染真空镀膜环境，影响膜层质量。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种滚筒式磁控溅射镀膜机，以解决传统导电装置采用石墨电刷存在的高温真空环境会降低石墨电刷使用寿命、石墨电刷上的石墨等粉尘可能污染真空镀膜环境的问题。

一种滚筒式磁控溅射镀膜机，包括溅射滚筒、滚筒座以及驱动装置；所述溅射滚筒具有用于进行磁控溅射的溅射内腔，所述溅射滚筒设置在所述滚筒座上并与所述驱动装置连接以由所述驱动装置驱动转动，所述滚筒座上设置有导电滚轮，所述导电滚轮的轮面抵接于所述溅射滚筒的外侧壁上，所述导电滚轮的径向与所述溅射滚筒的轴向垂直，所述导电滚轮用于传输电流至所述溅射滚筒上以对所述溅射内腔中的待镀工件施加偏压。

在其中一个实施例中，所述导电滚轮包括多个第一导电滚轮，所述溅射滚筒由多个所述第一导电滚轮共同支撑。

在其中一个实施例中，所述滚筒座包括支架以及设置在所述支架上的第一支撑轴和第二支撑轴，所述第一支撑轴和所述第二支撑轴相对设置，所述第一支撑轴和所述第二支撑轴均与所述溅射滚筒的轴向平行，所述第一支撑轴和所述第二支撑轴上均设置有多个所述第一导电滚轮。

在其中一个实施例中，所述溅射滚筒的外侧壁设置有多条限位轨道，多条所述限位轨道沿所述溅射滚筒的周向环绕在所述溅射滚筒上，所述第一导电滚轮与所述限位轨道滚动配合。

在其中一个实施例中，所述溅射滚筒的外侧壁设置有齿环，所述齿环沿所述溅射滚筒的周向环绕在所述溅射滚筒上，所述驱动装置包括电机以及由所述电机驱动转动的齿轮，所述齿轮和所述齿环传动配合。

在其中一个实施例中，所述导电滚轮还包括第二导电滚轮，所述滚筒座上设置有杠杆和拉伸弹簧，所述杠杆可转动连接于所述滚筒座，所述杠杆的两端分别连接于所述第二导电滚轮和所述拉伸弹簧，在所述拉伸弹簧的拉力下，所述杠杆将所述第二导电滚轮的轮面压在所述溅射滚筒的外侧壁上。

在其中一个实施例中，所述溅射滚筒包括内筒和外筒，所述外筒套设在所述内筒上，所述内筒能够移入或移出所述外筒，所述内筒具有所述溅射内腔。

在其中一个实施例中，所述内筒和所述外筒通过直线形的限位槽和活动嵌设在所述限位槽中的限位凸条配合连接。

在其中一个实施例中，所述内筒和所述外筒通过所述限位凸条和所述限位槽的内壁进行电流传导。

在其中一个实施例中，所述内筒和所述外筒还通过导电线连接。

在其中一个实施例中，所述溅射内腔的内壁设置有多个搅拌叶。