[实用新型]一种背表面钝化电池片镀膜设备有效
| 申请号: | 201922017250.7 | 申请日: | 2019-11-20 |
| 公开(公告)号: | CN210856328U | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
| 发明(设计)人: | 杨金鑫;谢凤兰;刘燕;唐正海 | 申请(专利权)人: | 盐城阿特斯阳光能源科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/04;C23C16/40;C23C16/34;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 224000 江苏省盐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 表面 钝化 电池 镀膜 设备 | ||
1.一种背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,包括:
电池载板(1),所述电池载板(1)用于承载电池片,所述电池载板(1)包括支撑板(11)和遮挡板(12),所述支撑板(11)位于所述遮挡板(12)上方,所述支撑板(11)上设有贯穿所述支撑板(11)的配合槽,所述电池片配合在所述配合槽内,所述遮挡板(12)上设有缝隙(121);
运输装置(2),所述运输装置(2)用于运输所述电池载板(1);
沉积装置(3),所述沉积装置(3)设在所述运输装置(2)的下方,所述沉积装置(3)用于朝向所述电池载板(1)喷射氧化铝沉积气流和氮化硅沉积气流,所述氧化铝沉积气流与所述氮化硅沉积气流能够通过穿过所述缝隙(121)以实现所述电池片镀膜。
2.根据权利要求1所述的背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,所述支撑板(11)上设有配合在所述配合槽内的支撑格栅(111),多个所述电池片呈行列排布地分布在所述支撑格栅(111)上。
3.根据权利要求2所述的背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,所述支撑板(11)上设有环绕所述支撑格栅(111)设置的配合长孔(112),所述遮挡板(12)通过连接件与所述配合长孔(112)配合。
4.根据权利要求1所述的背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,所述背表面钝化电池镀膜设备还包括吸附装置(4),所述吸附装置(4)用于吸附所述电池片使其运动至所述运输装置(2)上。
5.根据权利要求4所述的背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,所述背表面钝化电池镀膜设备还包括拍摄装置(5),所述拍摄装置(5)位于所述吸附装置(4)的上方,所述拍摄装置(5)用于拍摄并且识别所述电池片。
6.根据权利要求5所述的背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,所述背表面钝化电池镀膜设备还包括归正装置(6),所述归正装置(6)用于归正所述电池片,所述归正装置(6)与所述拍摄装置(5)电连接,所述归正装置(6)可以根据所述拍摄装置(5)的结果调整所述电池片的位置。
7.根据权利要求1所述的背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,所述运输装置(2)包括两个传送带结构,两个所述传送带结构并排设置,所述电池载板(1)支撑在所述传送带结构的传送带上,所述沉积装置(3)位于两个所述传送带之间。
8.根据权利要求1所述的背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,所述沉积装置(3)包括:
预热组件(31),所述预热组件(31)用于预热所述电池片;
氧化铝沉积组件(32),在所述电池片的运输方向上,所述氧化铝沉积组件(32)位于所述预热组件(31)的下游,所述氧化铝沉积组件(32)用于喷射氧化铝沉积气流;
氮化硅沉积组件(33),在所述电池片的运输方向上,所述氮化硅沉积组件(33)位于所述氧化铝沉积组件(32)的下游,所述氮化硅沉积组件(33)用于喷射氮化硅沉积气流。
9.根据权利要求8所述的背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,所述氧化铝沉积组件(32)包括:
三甲基铝喷嘴(321),所述三甲基铝喷嘴(321)用于朝向所述电池片喷射三甲基铝气流;
臭氧喷嘴(322),在所述电池片的运输方向上,所述臭氧喷嘴(322)位于所述三甲基铝喷嘴(321)的下游,所述臭氧喷嘴(322)用于朝向所述电池片喷射臭氧气流;
氮气喷嘴(323),所述氮气喷嘴(323)为两个,两个所述氮气喷嘴(323)间隔设置,且所述三甲基铝喷嘴(321)及所述臭氧喷嘴(322)位于两个所述氮气喷嘴(323)之间。
10.根据权利要求8所述的背表面钝化电池片镀膜设备,其特征在于,所述氮化硅沉积组件(33)包括:
氨气喷嘴(331),所述氨气喷嘴(331)用于朝向所述电池片喷射氨气气流;
硅烷喷嘴(332),在所述电池片的运输方向上,所述硅烷喷嘴(332)位于所述氨气喷嘴(331)的下游,所述硅烷喷嘴(332)用于朝向所述电池片喷射硅烷气流。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





