[实用新型]一种半导体硅环刻蚀洗净装置

权利要求书

1.一种半导体硅环刻蚀洗净装置，其特征是，包括机身，机身上设有刻蚀槽、放置架和第一驱动电机，放置架包括连接杆和用于固定硅环的转动架，连接杆与机身连接，转动架与连接杆转动连接，第一驱动电机通过传动机构带动转动架转动。

2.根据权利要求1所述的一种半导体硅环刻蚀洗净装置，其特征是，所述机身上设有纯水槽和第二驱动电机，纯水槽设置在刻蚀槽一旁，连接杆与机身转动连接，第二驱动电机驱动连接杆转动。

3.根据权利要求1所述的一种半导体硅环刻蚀洗净装置，其特征是，所述传动机构包括若干个依次啮合的齿轮，齿轮与连接杆转动连接。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种半导体硅环刻蚀洗净装置，其特征是，所述刻蚀槽上设有进水口和出水口，进水口设置在刻蚀槽上部，出水口设置在刻蚀槽下部。

5.根据权利要求4所述的一种半导体硅环刻蚀洗净装置，其特征是，所述刻蚀槽内侧壁靠近上端的位置设有溢流槽，溢流槽与出水口连通。

6.根据权利要求1或2或3所述的一种半导体硅环刻蚀洗净装置，其特征是，所述刻蚀槽底部设有用于产生气泡的鼓泡装置。

7.根据权利要求6所述的一种半导体硅环刻蚀洗净装置，其特征是，所述鼓泡装置的出气端设有出气管，出气管环绕在刻蚀槽底部，出气管上设有若干个出气口。

8.根据权利要求 2所述的一种半导体硅环刻蚀洗净装置，其特征是，所述机身上设有上盖，上盖包括操作门板、左集气装置和右集气装置组成，左集气装置布置在刻蚀槽正上方，右集气装置布置在纯水槽正上方。