[实用新型]一种用于光刻机的气浮导轨有效

专利信息
申请号: 201921979710.8 申请日: 2019-11-16
公开(公告)号: CN211145112U 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 王强志;魏传波 申请(专利权)人: 洛阳传顺机械设备有限公司
主分类号: F16C29/02 分类号: F16C29/02;F16C32/06
代理公司: 洛阳九创知识产权代理事务所(普通合伙) 41156 代理人: 炊万庭
地址: 471000 河南省洛*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 光刻 导轨
【说明书】:

实用新型涉及光刻机领域,具体的说是一种用于光刻机的气浮导轨。包括导柱、轴承壳体以及气浮轴承;在轴承壳体的筒壁上对称开设有沿轴承壳体的长度方向分布的第一气道和第二气道,第一气道与开设在轴承壳体外壁上的进气孔直接连通,第二气道通过开设在轴承壳体筒壁中并呈环形的第三气道与第一气道连通;气浮轴承采用纳米碳纤维材料制作并固定安装在轴承壳体的内沿,在气浮轴承的外沿开设有沿自身长度方向分布的环形槽,环形槽与轴承壳体的内沿配合形成第四气道,在轴承壳体的筒壁上还间隔开设有多个用于连接第四气道和第一气道以及第四气道和第二气道的通气孔。本实用新型可降低光刻机导轨的加工难度和成本,并提高其承载力和精度。

技术领域

本实用新型涉及光刻机领域,具体的说是一种用于光刻机的气浮导轨。

背景技术

光刻机又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。通常用于硅片表面的清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。以实现在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上,即将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

在光刻机的应用中,用于承载硅片往复滑动的导轨结构显得尤为重要。现有技术中的光刻机通常采用接触式直线导轨,对于直线导轨的精度要求极高,生产加工困难,成本过大。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种用于光刻机的气浮导轨,降低光刻机导轨的加工难度和成本,并提高其承载力和精度。

为了解决以上技术问题,本实用新型采用的技术方案为:一种用于光刻机的气浮导轨,包括导柱、滑动配合于导柱上并用于固定滑动托板的轴承壳体以及配合安装在轴承壳体和导柱之间的气浮轴承;在轴承壳体的筒壁上对称开设有沿轴承壳体的长度方向分布的第一气道和第二气道,第一气道与开设在轴承壳体外壁上的进气孔直接连通,第二气道通过开设在轴承壳体筒壁中并呈环形的第三气道与第一气道连通;气浮轴承采用纳米碳纤维材料制作并固定安装在轴承壳体的内沿,在气浮轴承的外沿开设有沿自身长度方向分布的环形槽,环形槽与轴承壳体的内沿配合形成第四气道,在轴承壳体的筒壁上还间隔开设有多个用于连接第四气道和第一气道以及第四气道和第二气道的通气孔,以使由进气孔通入的压缩空气可分别由第一气道和第二气道进入第四气道,并通过气浮轴承上的微孔后在气浮轴承内沿和导柱外沿之间形成气膜。

优选的,轴承壳体的内沿设有供气浮轴承配合安装的装配槽,在轴承壳体的端部设有用于将气浮轴承紧压固定在装配槽中的端盖。

优选的,气浮轴承的数量为两个,两个气浮轴承间隔设置在轴承壳体中并位于进气孔两侧的位置。

优选的,第一气道开设在轴承壳体的顶部,第二气道开设在轴承壳体的底部。

优选的,第一气道和第二气道的端部均设有堵头。

有益效果

本实用新型中用于固定承载托板的轴承壳体和导柱之间具有一层气膜,使之互不接触。从而轴承壳体及承载托板在沿导柱滑动过程中的阻力大幅减小,不仅提高了光刻机导轨各个方向上的滑动精度,而且对于导柱和轴承壳体的加工工艺精度要求较低,使其制造成本大大降低。

本实用新型中的气浮轴承采用纳米碳纤维材料制作,通过其上均匀分布的2μm通孔将压缩空气均布于导柱外沿和气浮轴承内沿之间以形成气膜,并通过该气膜支撑轴承壳体和承载托板。采用上述结构的气浮轴承,使得本实用新型耗气量小,气膜薄,从而使得气膜的刚性大,承载力强,便于提高光刻机导轨的滑动精度。

附图说明

图1为本实用新型的剖面结构示意图;

图2为图1中A部分的局部放大结构示意图;

图中标记:1、导柱,2、气浮轴承,3、第一气道,4、轴承壳体,5、进气孔,6、第三气道,7、第二气道,8、堵头,9、通气孔,10、第四气道,11、气膜,12、端盖。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于洛阳传顺机械设备有限公司,未经洛阳传顺机械设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921979710.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top