[实用新型]一种光刻机光线电磁光闸装置有效

专利信息
申请号: 201921977467.6 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN210742676U 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 任明锋 申请(专利权)人: 苏州采奕动力科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B26/02
代理公司: 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 代理人: 赵红霞
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 光线 电磁 装置
【说明书】:

实用新型揭示了一种光刻机光线电磁光闸装置,包括叶板和偏摆驱动机构,偏摆驱动机构包括电磁座和传动轴,电磁座包括导磁外筒、线圈及两端的固定铁芯,其中一个铁芯的外露面设置有涡卷扭簧座,传动轴一端与涡卷扭簧座相配接、另一端穿过电磁座与叶板相连,传动轴上套接有动铁芯,动铁芯与传动轴之间周向锁固轴向滑动配接,动铁芯的轴向两端分别设有倾斜面,任意固定铁芯设有的驱动面。本实用新型采用电磁传动结构实现对叶板的偏摆驱动,相较传统地电机驱动具备响应速度快、位置度精确及使用寿命长的特点。特定螺旋桨结构的动铁芯,具备螺旋扇面,能在限制空间内实现低功率高转矩,电磁吸力稳定可靠,满足风叶偏摆行程需求。

技术领域

本实用新型涉及一种光刻机光线电磁光闸装置,属于光刻遮光技术领域。

背景技术

光刻机是芯片制造的核心设备之一。光刻技术就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发光器发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅晶片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上的图形复印到硅晶片上。再利用化学或物理方法,将光刻胶未掩蔽的硅晶片表面或介质层除去,从而在硅晶片表面或介质层上获得与光罩完全一致的图形,从而使硅晶片具有电子线路图的作用。

集成电路各功能层是立体重叠的,因而光刻工艺总是多次反复进行,大规模集成电路要经过约10次光刻才能完成各层图形的全部传递。所以在不需要曝光的时候,需要阻止光束照射到硅晶片。如果采用电动机技术进行遮光光闸开启与关闭则存在响应速度慢,生产效率低下等缺点,不适合应用于高端光刻机领域。

实用新型内容

本实用新型的目的是解决上述现有技术的不足,提供一种光刻机光线电磁光闸装置,在不影响光刻机曝光质量的前提下,实现光刻机遮光光闸开启与关闭的高响应速度与高生产效率的技术目的。

为了达到上述目的,本实用新型所采用的技术方案为:

一种光刻机光线电磁光闸装置,

包括叶板和用于驱动所述叶板往复偏摆的偏摆驱动机构,

所述偏摆驱动机构包括电磁座和传动轴,

其中,所述电磁座包括具备中空腔室的导磁外筒,所述中空腔室内设有用于电磁转换的线圈,中空腔室的两端分别设有固定铁芯,任意所述固定铁芯设有轴承,并且其中一个所述固定铁芯的外露面设置有涡卷扭簧座,

所述传动轴一端与所述涡卷扭簧座相配接、另一端穿过所述电磁座与所述叶板相连,传动轴与任意所述轴承相旋转活动配接,

所述传动轴上套接有位于所述中空腔室内的动铁芯,所述动铁芯与所述传动轴之间周向锁固轴向滑动配接,

所述动铁芯的轴向两端分别设有倾斜面,任意所述固定铁芯设有朝向所述动铁芯的用于驱动所述动铁芯旋转的驱动面,并且两个所述固定铁芯的旋转驱动方向同向。

优选地,所述动铁芯呈螺旋桨结构,所述动铁芯任意桨叶的轴向端面呈螺旋扇面。

本实用新型的有益效果主要体现在:

1.采用电磁传动结构实现对叶板的偏摆驱动,相较传统地电机驱动具备响应速度快、位置度精确及使用寿命长的特点。

2.特定螺旋桨结构的动铁芯,具备螺旋扇面,能在限制空间内实现低功率高转矩,电磁吸力稳定可靠,满足风叶偏摆行程需求。

3.整体设计简洁,制造成本得到有效控制,适于叶板偏摆驱动。

附图说明

图1是本实用新型一种光刻机光线电磁光闸装置的爆炸结构示意图。

图2是本实用新型一种光刻机光线电磁光闸装置的使用状态示意图。

具体实施方式

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