[实用新型]一种PVD设备蒸镀检测用导入接头有效
申请号: | 201921958697.8 | 申请日: | 2019-11-13 |
公开(公告)号: | CN211005606U | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 钱万勇 | 申请(专利权)人: | 苏州三原流体科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;C23C14/52 |
代理公司: | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 赵瑞鹏 |
地址: | 215151 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pvd 设备 检测 导入 接头 | ||
本实用新型提供一种PVD设备蒸镀检测用导入接头,涉及PVD设备技术领域,包括与PVD设备预留口连接的法兰、与蒸镀检测仪连接的螺母和连接所述法兰和螺母的连接轴,所述连接轴的一端与所述法兰密封连接,另一端与所述螺母密封连接。采用本实用新型提供的导入接头,可以快速实现PVD设备预留孔与蒸镀检测仪之间的连接,从而方便对PVD设备内部的蒸镀数据进行检测和评估,提升PVD设备的检测维度。
技术领域
本实用新型涉及PVD设备技术领域,特别涉及一种PVD设备蒸镀检测用导入接头。
背景技术
PVD,是指利用物理气相沉积(Physical Vapour Deposition,PVD)技术在真空条件下,将材料源-固定或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术,PVD设备是指利用上述技术原理的制成的特定机械机构。
根据物理气相沉积方法不同,PVD设备主要包括真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜及分子束外延等。其中,现有真空蒸镀型PVD设备存在如下问题:即在运行过程中,需要对PVD设备真空腔内的蒸镀数据进行检测,但现有的真空蒸镀型PVD设备中预留的连接口KF25连接法兰无法与现有蒸镀检测仪连接,亟需一种转换结构实现上述的连接。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种PVD设备蒸镀检测用导入接头,实现了真空蒸镀检测仪与PVD设备的快速连接,便于对PVD设备内部蒸镀数据的检测。
为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案如下:
本实用新型提供一种PVD设备蒸镀检测用导入接头,包括与PVD设备预留口连接的法兰、与蒸镀检测仪连接的螺母和连接所述法兰和所述螺母的连接轴,所述连接轴的一端与所述法兰密封连接,另一端与所述螺母密封连接。
进一步地,所述法兰的一面为凸起结构,另外一面为具有凹槽结构,所述法兰具有中心孔,所述中心孔贯穿所述法兰的圆心位置。
进一步地,所述螺母的一端为中心位置具有圆孔的圆环结构,所述圆孔的直径小于所述螺母的内径。
进一步地,所述螺母的侧面上设置有排气孔。
进一步地,所述连接轴包括依次连接的第一管轴、第二管轴、第三管轴和第四管轴,所述第一管轴的外径小于所述第二管轴的外径,所述第三管轴的外径大于所述第二管轴的外径。
进一步地,所述第二管轴的外径不大于所述圆孔的直径,所述第一管轴和所述第二管轴穿过所述螺母的圆孔与所述法兰连接。
进一步地,所述第三管轴的外径大于所述圆孔的直径,所述第三管轴的外径不大于所述螺母的内径,所述第三管轴与所述第四管轴位于所述螺母的内侧。
进一步地,所述第一管轴、第二管轴、第三管轴和第四管轴的内径相同。
与现有技术相比,本实用新型提供的技术方案具有如下优点和有益效果:本实用新型提供一种PVD设备蒸镀检测用导入接头,包括与PVD设备预留口连接的法兰、与蒸镀检测仪连接的螺母和连接所述法兰和螺母的连接轴,所述连接轴的一端与所述法兰密封连接,另一端与所述螺母密封连接。采用本实用新型提供的导入接头,可以快速实现PVD设备预留孔与蒸镀检测仪之间的连接,从而方便对PVD设备内部的蒸镀数据进行检测和评估,提升PVD设备的检测维度。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为实施例中PVD设备蒸镀检测用导入接头的爆炸图;
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