[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种镀膜均匀的真空镀膜设备，具体涉及真空镀膜领域，包括真空箱，所述真空箱内部中心处固定设有固定机构，所述固定机构包括固定筒、齿轮组、一号固定杆、二号固定杆和接触块，所述齿轮组活动设于固定筒内部，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于固定筒两侧，所述接触块固定设于固定筒底部，所述一号固定杆和二号固定杆远离固定筒的一端均固定设有固定板，所述固定筒两侧表面均开设有开槽，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于对应开槽内部，所述真空箱内部底端开设有底槽。本实用新型可提供真空蒸发镀膜及真空电镀膜两种加工方式，减少生产成本，便于调整靶件的镀膜方式，使用更加灵活方便。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，更具体地说，本实用涉及一种镀膜均匀的真空镀膜设备。

背景技术

真空电镀是一种物理沉积现象，即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层，真空蒸发镀膜是在高真空的条件下，加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法。

现有的真空镀膜设备仅能提供一种真空镀膜方式，增加了生产成本，使用不够灵活方便。

实用新型内容

为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型的实施例提供一种镀膜均匀的真空镀膜设备，本实用新型所要解决的技术问题是：如何在一个装置上提供两种镀膜加工方式。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种镀膜均匀的真空镀膜设备，包括真空箱，所述真空箱内部中心处固定设有固定机构，所述固定机构包括固定筒、齿轮组、一号固定杆、二号固定杆和接触块，所述齿轮组活动设于固定筒内部，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于固定筒两侧，所述接触块固定设于固定筒底部，所述一号固定杆和二号固定杆远离固定筒的一端均固定设有固定板，所述固定筒两侧表面均开设有开槽，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于对应开槽内部，所述真空箱内部底端开设有底槽，所述底槽内部顶端固定设有坩埚，所述坩埚外周固定设有导板，所述真空箱顶部活动设有箱盖，所述箱盖底部固定设有连接管，所述连接管顶部固定设有分流管，且分流管贯穿于箱盖内部中心处，所述分流管两侧分别设有抽气管和收集管。

使用时，通过坩埚与一号加热板的结合，可进行真空蒸发镀膜，通过进气管与靶弧源的结合，可进行真空电镀，靶件固定在固定板的外侧面，真空箱与箱盖密封连接，通过连接管对真空箱内部进行抽真空，真空蒸发镀膜时，两组固定板靠近接触块合并形成半圆形，可比平面的固定板固定更多的靶件，同时靶件的接触面更加广泛，不会背对靶材，一号加热板可对坩埚进行加热，靶件在半圆形固定板的固定下，便于坩埚内部的靶材蒸发并均匀附着在固定板表面的靶件上，真空电镀时，电机带动主动齿轮及二号固定杆转动，被动齿轮及一号固定杆以反方向转动，一号固定杆和二号固定杆沿对应的开槽内部滑动，使两组固定板反向翻转呈括号形分布，两组固定板对应真空箱内部两侧的靶弧源，靶弧源连接外部电源工作，通过进气管向真空箱内部通入反应气体，此时可对固定板表面的靶件进行镀膜。

在一个优选地实施方式中，所述底槽两侧均设有进气管，且进气管贯穿于真空箱内部底端，便于向真空箱内部输送反应气体。

在一个优选地实施方式中，所述真空箱内部两侧均固定设有靶弧源，且靶弧源连接外部电源，便于进行电镀膜。

在一个优选地实施方式中，所述坩埚底部固定设有一号加热板，且一号加热板位于底槽内部中层，便于对坩埚内部靶材进行加热蒸发。

在一个优选地实施方式中，所述连接管两侧均设有二号加热板，且二号加热板与固定板之间对应设置，便于对固定板进行加热。

在一个优选地实施方式中，所述真空箱与箱盖之间为密封设置，所述导板远离坩埚的侧面呈弧形设置，便于引导靶材下落。

在一个优选地实施方式中，所述齿轮组包括主动齿轮和被动齿轮，且主动齿轮端部通过连接轴固定连接有电机，便于一号固定杆和二号固定杆的翻转。