[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜设备

权利要求书

1.一种镀膜均匀的真空镀膜设备，包括真空箱(1)，其特征在于：所述真空箱(1)内部中心处固定设有固定机构(2)，所述固定机构(2)包括固定筒(12)、齿轮组(13)、一号固定杆(14)、二号固定杆(15)和接触块(16)，所述齿轮组(13)活动设于固定筒(12)内部，所述一号固定杆(14)和二号固定杆(15)贯穿于固定筒(12)两侧，所述接触块(16)固定设于固定筒(12)底部，所述一号固定杆(14)和二号固定杆(15)远离固定筒(12)的一端均固定设有固定板(17)，所述固定筒(12)两侧表面均开设有开槽(18)，所述一号固定杆(14)和二号固定杆(15)贯穿于对应开槽(18)内部，所述真空箱(1)内部底端开设有底槽(3)，所述底槽(3)内部顶端固定设有坩埚(4)，所述坩埚(4)外周固定设有导板(5)，所述真空箱(1)顶部活动设有箱盖(8)，所述箱盖(8)底部固定设有连接管(9)，所述连接管(9)顶部固定设有分流管(19)，且分流管(19)贯穿于箱盖(8)内部中心处，所述分流管(19)两侧分别设有抽气管(20)和收集管(21)。

2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述底槽(3)两侧均设有进气管(6)，且进气管(6)贯穿于真空箱(1)内部底端。

3.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述真空箱(1)内部两侧均固定设有靶弧源(7)，且靶弧源(7)连接外部电源。

4.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述坩埚(4)底部固定设有一号加热板(10)，且一号加热板(10)位于底槽(3)内部中层。

5.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述连接管(9)两侧均设有二号加热板(11)，且二号加热板(11)与固定板(17)之间对应设置。

6.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述真空箱(1)与箱盖(8)之间为密封设置，所述导板(5)远离坩埚(4)的侧面呈弧形设置。

7.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述齿轮组(13)包括主动齿轮和被动齿轮，且主动齿轮端部通过连接轴固定连接有电机。

8.根据权利要求5所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述固定板(17)呈劣弧形设置，且固定板(17)在接触块(16)与二号加热板(11)之间翻转设置。