[实用新型]一种粉末磁控溅射仪有效
| 申请号: | 201921911199.8 | 申请日: | 2019-11-07 |
| 公开(公告)号: | CN210826336U | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
| 发明(设计)人: | 邾根祥;朱沫浥;江晓平;方辉;李东明 | 申请(专利权)人: | 合肥科晶材料技术有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;B22F1/02 |
| 代理公司: | 合肥东邦滋原专利代理事务所(普通合伙) 34155 | 代理人: | 王芸 |
| 地址: | 230088 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 粉末 磁控溅射 | ||
本实用新型公开了一种粉末磁控溅射仪,包括石英腔室组件,所述石英腔室组件内部室体的上方设置有二英寸磁控溅射靶头,且石英腔室组件内部室体的下方设置有震动样品台,所述石英腔室组件的正下方设置有电路控制系统,且石英腔室组件的一侧连接设置有真空泵,所述二英寸磁控溅射靶头的一端连接设置有水冷设备,先把工作粉料放入震动样品台上,然后闭合石英腔室组件,通过真空泵抽取石英腔室组件内的空气,开启水冷设备,降低二英寸磁控溅射靶头在溅射过程中产生的热量,震动样品台可实现使粉料不停翻滚,通过电路控制系统可以对溅射电流,溅射时间及真空度进行调节控制,从而实现自主对粉料表面进行溅射镀膜包覆的过程。
技术领域
本实用新型属于粉末镀膜包覆技术领域,具体涉及一种粉末磁控溅射仪。
背景技术
目前,溅射仪作为一种制备材料表面薄膜时所使用的设备,已经广泛应用在研究院校和实验当中。
现有技术存在以下问题:现在技术的溅射仪,对于多功能的粉料表面镀膜包覆比较少涉及,同时缺乏一种方便放料和取料的粉末磁控溅射仪,不利于工作人员的作业。
实用新型内容
为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种粉末磁控溅射仪,具有功能多样和便于放料及取料的特点。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种粉末磁控溅射仪,包括石英腔室组件,所述石英腔室组件内部室体的上方设置有二英寸磁控溅射靶头,且石英腔室组件内部室体的下方设置有震动样品台,所述石英腔室组件的正下方设置有电路控制系统,且石英腔室组件的一侧连接设置有真空泵,所述二英寸磁控溅射靶头的一端连接设置有水冷设备;
所述石英腔室组件包括下石英室和上石英室,所述下石英室顶部的室体上对称分布设置有两个第一弧型耳板,所述第一弧型耳板上固定设置有活动滑杆,所述活动滑杆的顶部螺纹连接设置有螺纹帽,且活动滑杆上套设有复位弹簧,所述下石英室顶端面的室体上开设有密封圈槽,所述上石英室底部的室体上对称分布设置有两个第二弧型耳板,且上石英室底端面的室体上设置有与密封圈槽相卡合密闭连接的密封圈板,所述下石英室和上石英室之间设置有固定搭扣。
优选的,所述下石英室通过固定搭扣与上石英室固定连接。
优选的,所述第二弧型耳板上开设有可供活动滑杆自由滑动的贯通孔。
优选的,所述复位弹簧的一端抵触在第二弧型耳板上,且复位弹簧的另一端抵触在第一弧型耳板上。
优选的,所述密封圈槽内设置有密封垫圈。
优选的,所述二英寸磁控溅射靶头安装在上石英室内,所述震动样品台安装在下石英室内。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:使用时先把工作粉料放入震动样品台上,然后闭合石英腔室组件,通过真空泵抽取石英腔室组件内的空气,然后通入工作所需的气体形成工作所需气体环境,开启水冷设备,降低二英寸磁控溅射靶头在溅射过程中产生的热量,使其可以长时间使用,震动样品台可实现使粉料不停翻滚,从而实现粉料表面均匀镀膜包覆,通过电路控制系统可以对溅射电流,溅射时间及真空度进行调节控制,从而实现自主对粉料表面进行溅射镀膜包覆的过程,同时石英腔室组件包括下石英室和上石英室,下石英室通过固定搭扣和上石英室固定连接,且下石英室通过密封圈槽和密封圈板之间的卡合,确保其与上石英室之间的密闭性,同时石英腔室组件通过第一弧型耳板、第二弧型耳板、活动滑杆和复位弹簧之间的配合,可实现上石英室的自动抬升,从而方便工作粉料的放料和取料作业。
附图说明
图1为本实用新型的主视图;
图2为本实用新型石英腔室组件部分结构的主视图;
图3为本实用新型下石英室和上石英室部分结构的立体图;
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