[实用新型]一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置

权利要求书

1.一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，包括滚轮（10），其特征在于：硅片进口位置处设有水膜装置，所述水膜装置包括设置在所述滚轮（10）上方的喷水管（20），以及与所述喷水管（20）连通的进水管（21），以及所述喷水管（20）上设置的多个喷水孔（22），所述喷水孔（22）正对所述滚轮（10）上方通过的硅片（40）喷射。

2.根据权利要求1所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，其特征在于：所述进水管（21）上还连接有流量控制装置以及压力控制装置。

3.根据权利要求2所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，其特征在于：所述喷水管（20）还连接有动力旋转装置，所述动力旋转装置可以控制所述喷水管（20）转动，以此来控制所述喷水孔（22）喷射出来的水喷射到所述硅片（40）上表面。

4.根据权利要求3所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，其特征在于：还包括沿所述硅片（40）的入料方向设置在所述喷水管（20）后方的挤水辊（30）。

5.根据权利要求4所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，其特征在于：所述挤水辊（30）的中部直径D2与两端直径D1的差值不小于所述硅片（40）的厚度。

6.根据权利要求5所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，其特征在于：所述挤水辊（30）中部直径D2为30.92mm，所述挤水辊（30）两端直径D1为32mm，所述挤水辊（30）传动轴直径d为9mm，所述挤水辊（30）的两端直径D1的长度L为25mm。

7.根据权利要求6所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，其特征在于：所述喷水管（20）与所述挤水辊（30）之间的距离为20-40cm。

8.根据权利要求1-7任一项所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，其特征在于：所述硅片（40）出口位置处还设有挡板（50），所述挡板（50）距离通过的所述硅片（40）上方的垂直距离距离D为0.8-1.2cm。

9.根据权利要求8所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，其特征在于：所述喷水孔（22）的孔径为1mm，孔间距为1-2mm。

10.根据权利要求9所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置，其特征在于：适用于RENA刻蚀设备。