[实用新型]真空镀膜的真空组件以及真空镀膜设备有效
申请号: | 201921826210.0 | 申请日: | 2019-10-28 |
公开(公告)号: | CN211284524U | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 朱冰冰;来华杭;周海龙;俞峰 | 申请(专利权)人: | 浙江上方电子装备有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/56 |
代理公司: | 杭州合信专利代理事务所(普通合伙) 33337 | 代理人: | 黄平英 |
地址: | 312366 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空镀膜 真空 组件 以及 设备 | ||
本申请公开了真空镀膜的真空组件以及真空镀膜设备,其中真空组件用于在真空设备的阴极门和真空箱体之间建立可分离的真空管路,包括:固定端管路,包括与真空箱体连接的固定端支架和固定端真空管,固定端支架设有朝向阴极门的固定端法兰,固定端真空管的端部的外缘与固定端法兰的内缘密封配合;分离端管路,包括与阴极门连接的分离端支架和分离端真空管,分离端支架设有朝向固定端法兰的分离端法兰,分离端真空管的端部的外缘与分离端法兰的内缘密封配合;分离端支架上设有调平机构,调平机构用于调整分离端法兰相对于固定端法兰的空间位置和姿态,分离端法兰和固定端法兰之间设有对正机构。
技术领域
本申请涉及真空镀膜领域,特别是涉及真空镀膜的真空组件以及真空镀膜设备。
背景技术
真空溅镀是由电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,而最终达到对基片表面镀膜的目的。
为了保证镀膜的正常操作,需要在真空的环境中实现。因此真空镀膜设备需要形成真空腔来收容靶材和代镀膜的工件。由于真空管路要配合阴极门的开关,所以真空管路需要拥有脱开功能,并且能够在连接中保证稳定的气密连接。相关技术中的真空管路断开操作或者恢复连接的操作较为繁琐,不利于提高生产效率。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本申请公开了真空镀膜的真空组件,用于在真空设备的阴极门和真空箱体之间建立可分离的真空管路,包括:
固定端管路,包括与所述真空箱体连接的固定端支架和固定端真空管,所述固定端支架设有朝向所述阴极门的固定端法兰,所述固定端真空管的端部的外缘与所述固定端法兰的内缘密封配合;
分离端管路,包括与所述阴极门连接的分离端支架和分离端真空管,所述分离端支架设有朝向所述固定端法兰的分离端法兰,所述分离端真空管的端部的外缘与所述分离端法兰的内缘密封配合;
所述分离端支架上设有调平机构,所述调平机构用于调整所述分离端法兰相对于所述固定端法兰的空间位置和姿态,所述分离端法兰和所述固定端法兰之间设有对正机构。
以下还提供了若干可选方式,但并不作为对上述总体方案的额外限定,仅仅是进一步的增补或优选,在没有技术或逻辑矛盾的前提下,各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合,还可以是多个可选方式之间进行组合。
可选的,所述调平机构包括在所述分离端法兰的周向上设置的至少三个固定件。
可选的,所述固定件包括:
紧固件,将所述分离端法兰和所述分离端支架保持在凑近状态;
压簧,绕设在所述紧固件上并抵压在所述分离端法兰和所述分离端支架之间。
可选的,所述固定件设有三个且两两之间间距相等。
可选的,所述分离端支架还包括:
第一支架,用于安装所述固定件并安装所述分离端法兰;
第二支架,用于夹持所述分离端真空管。
可选的,所述固定端支架还包括支架底座,所述支架底座与所述真空箱体连接;在所述分离端法兰向所述固定端法兰靠近的方向上,所述支架底座位于所述固定端法兰背向所述分离端法兰的一侧,所述支架底座和所述固定端法兰之间设有多根支撑杆。
可选的,所述对正机构包括:
对正销,设置在所述分离端法兰上朝向所述固定端法兰的侧面上;
对正孔,设置在所述固定端法兰上用于收容所述对正销。
可选的,所述对正销远离所述分离端法兰的一端设有与所述对正孔配合的引导部。
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