[实用新型]用于硅片的插片装置有效
申请号: | 201921812237.4 | 申请日: | 2019-10-26 |
公开(公告)号: | CN210325739U | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 陈宏 | 申请(专利权)人: | 张家港市超声电气有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 苏州市港澄专利代理事务所(普通合伙) 32304 | 代理人: | 马丽丽 |
地址: | 215600 江苏省苏州市张家港*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 硅片 装置 | ||
本申请公开了一种用于硅片的插片装置,包括支架和水箱,水箱的端口处设有朝向水箱内倾斜的导流板,导流板上等间设有贯穿导流板两端的多个第一凹槽,多个第一凹槽朝向水箱内设置,导流板远离水箱的端口处设有与第一凹槽垂直的第二凹槽,第二凹槽同时连通多个第一凹槽,第二凹槽底部设有进水口,水箱上方的机架上设有与导流板垂直的电缸,电缸通过滑块连接有摆臂,摆臂可延伸至水箱内,摆臂底部垂直设有与导流板衔接的底板,底板上托举有硅片料框。该插片装置通过进水口进水,水均匀流入各个第一凹槽内形成保护水膜,硅片放置在倾斜导流板上会随着水流方向插入底板上的料框内,通过电缸配合实现自动插片,插片效率高,且碎片率低。
技术领域
本申请涉及硅片领域,特别是一种用于硅片的插片装置。
背景技术
在光伏或半导体领域,12寸的大型硅片在插片过程中,通常由人工进行操作,效率低且碎片率高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于硅片的插片装置,以克服现有技术中的不足。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
本申请实施例公开了一种用于硅片的插片装置,其特征在于:包括支架以及设置在支架上的水箱,所述水箱的端口处设有朝向水箱内倾斜的导流板,所述导流板上等间设有贯穿导流板两端的多个第一凹槽,多个所述第一凹槽朝向水箱内设置,所述导流板远离水箱的端口处设有与第一凹槽垂直的第二凹槽,所述第二凹槽同时连通多个第一凹槽,所述第二凹槽底部设有进水口,所述水箱上方的机架上设有与导流板垂直的电缸,所述电缸通过滑块连接有可上下移动的摆臂,所述摆臂可延伸至水箱内,所述摆臂底部垂直设有与导流板衔接的底板,所述底板上托举有硅片料框。
优选的,在上述的一种用于硅片的插片装置中,所述支架上水平延伸有凸台,所述凸台设置在导流板下方,所述凸台上设有支撑导流板底部的支撑块。
优选的,在上述的一种用于硅片的插片装置中,所述底板与摆臂一体成型。
优选的,在上述的一种用于硅片的插片装置中,所述水箱的底面倾斜设置,所述水箱内设有均流盘,所述水箱底部侧壁上开设有出水口。
优选的,在上述的一种用于硅片的插片装置中,所述机架底部设有滚轮。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于:
该插片装置通过进水口进水,水均匀流入各个第一凹槽内形成保护水膜,硅片放置在倾斜导流板上会随着水流方向插入底板上的料框内,通过电缸配合实现自动插片,插片效率高,且碎片率低。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动以根据这些附图获得其他的附图。
图1所示为本实用新型具体实施例中用于硅片的插片装置的结构示意图;
图2所示为本实用新型具体实施例中导流板的俯视图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行详细的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造