[实用新型]一种降低硅片镀膜色差的卡点有效

专利信息
申请号: 201921664104.7 申请日: 2019-09-30
公开(公告)号: CN210167375U 公开(公告)日: 2020-03-20
发明(设计)人: 沈亚光;陈煜辉;吴静 申请(专利权)人: 四川英发太阳能科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 李英
地址: 610000 四川省成都市中国(四川)自*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 降低 硅片 镀膜 色差
【权利要求书】:

1.一种降低硅片镀膜色差的卡点,其特征在于,包括卡点本体(1),卡点本体(1)呈圆柱体,在卡点本体(1)两侧各连接一个圆柱形的限位块(2),所述限位块(2)轴线与卡点本体(1)轴线重合,限位块(2)远离卡点本体(1)的一端设有环形凸台(3),环形凸台(3)套设在限位块(2)侧壁外周,环形凸台(3)、限位块(2)与卡点本体(1)间围成一个限位槽(4),所述环形凸台(3)外径为6.0mm,限位槽(4)宽度为0.3mm。

2.根据权利要求1所述的一种降低硅片镀膜色差的卡点,其特征在于,所述卡点本体(1)厚度为2.43-2.48mm。

3.根据权利要求1所述的一种降低硅片镀膜色差的卡点,其特征在于,所述环形凸台(3)轴线与限位块(2)轴线重合。

4.根据权利要求1所述的一种降低硅片镀膜色差的卡点,其特征在于,所述环形凸台(3)、限位块(2)和卡点本体(1)为一体式结构,且环形凸台(3)外侧面与限位块(2)的外侧端面位于同一平面上。

5.根据权利要求4所述的一种降低硅片镀膜色差的卡点,其特征在于,两个限位块(2)的外侧端面之间的距离为4.81-4.91mm。

6.根据权利要求1所述的一种降低硅片镀膜色差的卡点,其特征在于,所述限位槽(4)为环形槽,环形凸台(3)靠近限位槽(4)的一面为锥形斜面(31),该锥形斜面(31)与限位槽(4)底面夹角为120°。

7.根据权利要求1所述的一种降低硅片镀膜色差的卡点,其特征在于,所述限位块(2)直径为5±0.05mm,所述卡点本体(1)直径为9±0.05mm。

8.根据权利要求1所述的一种降低硅片镀膜色差的卡点,其特征在于,所述卡点本体(1)上倒有45°的斜角(11)。

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